向伟伟
- 作品数:2 被引量:2H指数:1
- 供职机构:中国科学技术大学工程科学学院精密机械与精密仪器系更多>>
- 发文基金:国家自然科学基金更多>>
- 相关领域:理学一般工业技术电气工程更多>>
- 微小等离子体发生器刻蚀机理的研究被引量:1
- 2008年
- 采用二维流体模型对扫描刻蚀加工中的微小等离子体发生器的刻蚀机理进行了数值仿真研究。该微小等离子体发生器为微空心阴极放电器件,当工作气体为SF6,工作气压在5 kPa^9 kPa时,空心阴极处微孔半径为0.25μm时,空心阴极外部区域的F原子的有效弥散长度在0.5μm^1.8μm之间变化,且浓度在3×1011cm-3~1.7×1012cm-3之间,基本满足扫描刻蚀加工的需求。
- 王海文莉向伟伟张秋萍褚家如
- 关键词:等离子体模拟
- 利用溅射反转剥离工艺实现微放电器Ni电极图形化被引量:1
- 2010年
- 研究了实现微放电器Ni电极图形化的溅射反转剥离工艺,即采用磁控溅射沉积Ni薄膜,利用图像反转法实现金属剥离.以硅为基底分析了转型烘烤和显影等因素对AR-U4030光刻胶反转的作用,研究了Ni膜溅射功率、时间以及超声振洗等条件对剥离的影响.实验表明,剥离Ni膜厚度为200nm时,图形精度可达2μm.最后,利用溅射反转剥离工艺实现了倒金字塔深槽中金属的剥离,简化了微放电器Ni电极的图形化工艺,由此制备的微放电器在SF6等离子体中稳定放电.
- 张秋萍文莉向伟伟王海褚家如
- 关键词:溅射