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何永枢

作品数:9 被引量:2H指数:1
供职机构:中国科学院高能物理研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信理学一般工业技术金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 7篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 3篇电子电信
  • 2篇金属学及工艺
  • 2篇一般工业技术
  • 2篇理学
  • 1篇电气工程

主题

  • 8篇正电子
  • 7篇正电子湮没
  • 3篇相变
  • 3篇马氏体
  • 3篇马氏体相
  • 3篇马氏体相变
  • 3篇合金
  • 2篇形状记忆
  • 2篇形状记忆合金
  • 2篇铜基
  • 2篇铜基形状记忆...
  • 2篇湮灭
  • 2篇马氏体转变
  • 2篇记忆合金
  • 2篇半导体
  • 1篇电阻器
  • 1篇氧化锌
  • 1篇氧化锌陶瓷
  • 1篇应变速率
  • 1篇正电子湮灭

机构

  • 9篇中国科学院
  • 1篇北京科技大学
  • 1篇哈尔滨工业大...
  • 1篇华侨大学
  • 1篇河北工学院
  • 1篇中国科学院福...

作者

  • 9篇何永枢
  • 6篇杨巨华
  • 5篇王蕴玉
  • 5篇黄懋容
  • 4篇顾华
  • 2篇郭应焕
  • 1篇肖纪美
  • 1篇林成天
  • 1篇常香荣
  • 1篇林建明
  • 1篇刘彩池
  • 1篇许承晃
  • 1篇刘海润
  • 1篇吴奕初
  • 1篇田中卓
  • 1篇雷廷权
  • 1篇杨建华
  • 1篇赵连城

传媒

  • 4篇科学通报
  • 2篇高能物理与核...
  • 1篇人工晶体学报
  • 1篇第四届全国正...
  • 1篇中国金属学会...

年份

  • 1篇1997
  • 2篇1996
  • 1篇1991
  • 3篇1990
  • 1篇1989
  • 1篇1987
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
高纯铝中不同应变速率拉伸的正电子湮没研究
1990年
一、引言 一般地讲,金属发生变形时,随着形变量的增加,正电子参数增加,小形变量时,参数增加显著;形变量达到一定程度;参数将趋于饱和。Park等在研究高纯铁单晶的变形时发现,正电子寿命与形变量的变化规律随形变方式(拉伸、弯曲、冷轧)而变。
吴奕初王明华常香荣田中卓肖纪美何永枢
关键词:高纯铝应变速率正电子湮没
掺 Ca^(2+)的 Gd_3Ga_5O_(12)晶体正电子湮没研究
1990年
本工作测定了含 Ca^(2+)量为0—100ppm 的 GGG 单晶的正电子寿命和 S 线形参数。Ca^(2+)含量在0—13.0 ppm 时,(?)和 S_j 随[Ca^(2+)]增加而线性增加,在其他浓度,(?)_j 和 S_j 只有轻微上升。研究了掺 Ca^(2+)后氧空位产生及其变化。
黄懋容何永枢顾华王蕴玉张乐潓林成天刘海润
关键词:正电子湮没钆镓石榴石晶体
掺硫和在不同温度下InP的正电子湮没研究
1996年
用正电子湮设方法研究了掺硫的InP载流于浓度(n)、迁移率和温度对空位浓度的影响,并讨论了它们对空位浓度影响的机理.探讨了空位类型。
黄懋容王蕴玉杨巨华何永枢郭应焕孙同年
关键词:正电子湮没半导体磷化铟
掺杂Na^+的KCl色心激光晶体的正电子湮没研究
1991年
本文用正电子湮没方法研究了在掺Na^+条件下,单纯、附色和γ射线辐照的KCl单晶的湮设寿命以及Doppler展宽S参数与掺Na^+量的关系。结果表明掺Na^+量为800ppm的KCl单晶空位浓度最小,为4.24×10^(17)/cm^3,它接近于纯KCl晶体的空位浓度。在附色的KCl晶体中存在明显的F心。S参数主要是受卤族阴离子外层电子的影响。此外还对掺Na^+的KCl单晶正电子湮没机制进行了讨论。
黄懋容顾华王蕴玉何永枢杨巨华林建明许承晃
关键词:KCL正电子湮没掺杂
时效对铜基形状记忆合金马氏体相变缺陷的影响
何永枢杨巨华李建华
关键词:铜基合金马氏体转变时效湮灭形状记忆合金
用正电子湮没研究ZnO陶瓷电阻器
1996年
ZnO压敏电阻器是以氧化锌为主体,添加其它少量氧化物制成的非线性电阻器,其伏(特)安(培)特性为非线性,也就是施加在ZnO材料的电压低于击穿电压时其电阻很大,几乎为绝缘体,只流过很小漏电流,当电压超过|V_A|(瞬时过电压)时,其电阻大大地减少,电流大幅度地增加。如图1所示,正常态因ZnO电阻大,电流按A回路走,所以起动了机器,当电压加到ZnO的|V_A|时,即达到瞬时过电压后,此时ZnO的电阻突然变得非常小,几乎等于零,这时电流走B回路,因而起到保护仪表或机器的作用。所以ZnO电阻器是一种瞬时过电压抑压器。 ZnO压敏电阻器的导电机制和组分微观结构等问题在国外虽然研究得十分活跃,但尚未搞清楚;国内在这方面的研究报道得也很少。ZnO陶瓷的非欧姆性质是由在ZnO晶粒之间的高电阻晶界层引起的。
黄懋容顾华何永枢王蕴玉杨巨华陈孝琛
关键词:正电子湮没电阻器氧化锌陶瓷
用正电子湮没研究中子辐照Si被引量:2
1997年
硅在能源技术应用中是很重要的材料,随着离子注入技术发展和对掺杂兴趣增加,了解由于粒子辐射而造成辐射损伤引起的空位与退火温度关系是非常重要的.在研究半导体缺陷中,正电子湮没方法是非常有用的方法,因为捕获正电子湮没的特性是受缺陷电荷影响,研究结果表明在半导体中,正电子能被辐射损伤缺陷所捕获.本工作是用正电子湮没寿命来研究经过中子辐照后的单晶硅,未退火及在400~1150℃范围内退火的空位变化情况,讨论了捕获模型.1
黄懋容王蕴玉杨巨华何永枢郭应焕刘彩池
关键词:中子辐照正电子湮没半导体
Fe-Mn合金中ε马氏体相变缺陷的正电子湮灭研究
应用正电子湮灭技术配合电镜实验,研究了Fe-20℅Mn合金相变缺陷对ε马氏体转变量的影响。实验观察到,少周次相变促进ε马氏体生成,多周次相变阻碍ε相的形成。正电子湮灭分析及电镜实验表明,少周次相变产生较少缺陷(包括空位和...
钱扬马如璋何永枢
关键词:马氏体转变黑色金属合金马氏体正电子二元合金正电子湮灭
铜基形状记忆合金热弹性马氏体相变缺陷的正电子湮没研究
1989年
铜基形状记忆合金的时效敏感性虽早有报道,但马氏体稳定化现象的发现并受到普遍的关注则是近几年的事。人们提出过再有序化、空位钉扎两种解释马氏体稳定化的主要机制。但对马氏体时效稳定化的研究仍然存在很多的疑问和分歧。
何永枢顾华杨巨华周光明杨建华赵连城雷廷权
关键词:形状记忆合金马氏体正电子湮没
共1页<1>
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