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朱春富

作品数：2 被引量：12H指数：1
供职机构：电子部更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇试剂
  • 2篇金属杂质
  • 2篇高纯
  • 2篇高纯试剂
  • 1篇电路
  • 1篇双氧水
  • 1篇氢氟酸
  • 1篇金属
  • 1篇集成电路
  • 1篇光谱
  • 1篇光谱法
  • 1篇光谱法测定
  • 1篇发射光谱
  • 1篇IC

机构

  • 2篇电子部

作者

  • 2篇朱春富
  • 2篇吴琼
  • 1篇张淑珍
  • 1篇王春梅

传媒

  • 1篇半导体技术
  • 1篇光谱学与光谱...

年份

  • 1篇1998
  • 1篇1994
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
发射光谱法测定五种高纯试剂中的金属杂质被引量：1
1998年
采用等离子体发射光谱法和交流电弧发射光谱法相互配合测定了５种ＩＣ用高纯试剂过氧化氢、双氧水、硝酸、盐酸和氢氟酸中的１７种杂质元素的含量。采用络合剂和富集技术，研究了降低空白和降低检测限的措施，检测限均达到ｎ×１０－１０。
王春梅吴琼张淑珍朱春富
关键词：双氧水氢氟酸发射光谱
IC用高纯试剂中金属杂质分析被引量：11
1994年
对ＨＣＩ、ＨＦ和ＨＮＯ；三种ＭＯＳ级高纯试剂中１８种金属杂质用发射光谱进行分析研究，取２０ｍｌ样品，加人适量甘露醇络合硼杂质，在有机玻璃防尘罩内低温挥发基体富集杂质，最后将杂质溶液转移到一对平头电极上，用电弧光谱进行测定。检测限为０．２～４．０（ｎｇ／ｍｌ），加入标准的回收率绝大部分在９０％以上。
朱春富吴琼
关键词：集成电路高纯试剂金属杂质
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