吴曲勇
- 作品数：5 被引量：58H指数：5
- 供职机构：华中科技大学化学与化工学院应用化学系更多>>
- 相关领域：金属学及工艺化学工程环境科学与工程更多>>
- 酸性镀铜研究进展被引量：10
- 2004年
- 将至今所使用的酸性镀铜添加剂分成六类进行了归纳叙述;简述近年来的各种物理因素例如脉冲技术、超声波技术、激光技术等在酸性镀铜中的应用现状及其对镀层质量的影响;总结应用阴极极化曲线、交流阻抗、微分电容等测试方法研究添加剂电化学行为和用扫描电镜、X-射线衍射、原子力显微镜等研究镀层结构来探讨酸性镀铜的沉积机理的一般方法。
- 刘烈炜吴曲勇卢波兰杨志强
- 关键词：酸性镀铜镀层质量阴极极化镀层结构X-射线衍射电化学行为
- 钢铁化学置换镀铜的研究被引量：10
- 2004年
- 研究了一种用于钢铁基体化学置换镀铜的专用复合添加剂。采用电化学方法和原子力显微镜研究了预镀层性能及其形貌。结果表明,添加剂可减少钢铁表面置换镀铜层的孔隙率,提高镀层结合力及耐蚀性。
- 刘烈炜卢波兰吴曲勇杨志强
- 关键词：添加剂孔隙率结合力
- 有机染料对酸性镀铜电沉积的影响被引量：7
- 2004年
- 为了有效地研究添加剂对铜电沉积的影响,选择合成了有机染料酸性镀铜添加剂AQ,用旋转圆盘电极动电位扫描、交流阻抗和微分电容等方法研究其对铜离子电沉积过程的影响,得到了铜的电沉积机理。发现这种染料主要影响亚铜离子的放电还原过程,具体表现为染料与亚铜离子形成配位化合物[AQCu(Ⅰ)]吸附在电极表面,阻碍吸附铜原子在晶面扩散结晶的过程。原子力显微镜对镀层微观形貌观察表明,AQ是性能良好的酸性镀铜添加剂。
- 刘烈炜吴曲勇卢波兰杨志强
- 关键词：电沉积铜旋转圆盘电极交流阻抗电极过程
- 化学置换镀铜研究进展被引量：18
- 2004年
- 置换镀铜的技术已经研究了许多年 ,但至今仍未在工业上取得有价值的应用 ,特别是化学置换镀铜层在铁基和锌基表面上作为电镀的底层的要求 ,其关键技术上仍未彻底地解决。回顾了近 10年来置换镀铜的历史 ,总结了几种较为重要的理论模型和实际工艺 ,并对使用情况作了说明。提出了对化学浸铜添加剂今后的研究方向 。
- 刘烈炜卢波兰吴曲勇杨志强付承华
- 关键词：添加剂结合力
- 氯离子对酸性镀铜电沉积的影响被引量：21
- 2004年
- 旋转圆盘电极动电位扫描 (RRDE)、交流阻抗 (EIS)、原子力显微镜 (AFM )等方法研究氯离子与添加剂AQ对酸性镀铜电沉积过程的影响 ,从沉积机理的角度解释氯离子必不可少的原因。结果表明 ,加入的氯离子改变了吸附络合物的放电形式 ,表现在氯离子通过离子桥机理形成三维网状结构的 [Cl…AQCu(I)…Cl]放电以阻碍整个放电过程 ,增加反应电阻 。
- 刘烈炜吴曲勇卢波兰杨志强
- 关键词：酸性镀铜电沉积旋转圆盘电极氯离子镀层
