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刘峥嵘

作品数:3 被引量:8H指数:2
供职机构:中国科学技术大学物理学院物理系更多>>
发文基金:国家自然科学基金中国科学院知识创新工程更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 2篇光电
  • 2篇衬底
  • 1篇带隙
  • 1篇电特性
  • 1篇深能级
  • 1篇能级
  • 1篇脉冲激光
  • 1篇脉冲激光沉积
  • 1篇宽带隙
  • 1篇光电特性
  • 1篇光电性
  • 1篇光电性能
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体材料
  • 1篇SI
  • 1篇SI(111...
  • 1篇ZNO
  • 1篇I-V
  • 1篇衬底材料
  • 1篇ZNO薄膜

机构

  • 3篇中国科学技术...
  • 1篇中国科学院

作者

  • 3篇刘峥嵘
  • 2篇赵朝阳
  • 2篇谢家纯
  • 1篇唐军
  • 1篇徐彭寿
  • 1篇康朝阳
  • 1篇郭俊福
  • 1篇傅竹西
  • 1篇孙柏
  • 1篇刘文齐
  • 1篇李雪白

传媒

  • 1篇中国科学技术...
  • 1篇发光学报

年份

  • 1篇2009
  • 2篇2008
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
SiC缓冲层对Si表面生长的ZnO薄膜结构和光电性能的改善被引量:3
2009年
用脉冲激光沉积(PLD)技术制备了ZnO/SiC/Si和ZnO/Si薄膜并制成了紫外探测器。利用X射线衍射(XRD),光致发光(PL)谱,I-V曲线和光电响应谱对薄膜的结构和光电性能进行了研究。实验结果表明:SiC缓冲层改善了ZnO薄膜的结晶质量和光电性能,其原因可能是SiC作为柔性衬底能够减少ZnO与Si之间大的晶格失配和热失配导致的界面缺陷和界面态。
康朝阳赵朝阳刘峥嵘孙柏唐军徐彭寿谢家纯
关键词:ZNO薄膜SI(111)衬底光电性能
不同衬底材料的ZnO/Si异质结I-V及光电特性被引量:5
2008年
采用脉冲激光沉积(PLD)技术和微电子平面工艺,用不同表面掺杂的Si作为衬底制备了ZnO/Si异质结,并且以p-Si(p-)为衬底制备了ZnO(含Mn0.2%)/Si异质结、包含SiC缓冲层的ZnO/SiC/Si和ZnO(含Mn0.2%)/SiC/Si结构,测试了样品的XRD曲线、I-V特性曲线和P-E(光电响应)特性曲线.结果发现ZnO/n-Si结有很低的反向暗电流,SiC缓冲层能提高反向击穿电压,ZnO/p-Si(p+)异质结能有较强的光电响应,ZnO/n-Si(n-)更适合作为大波段区间的光探测器.还发现波长470,480,490nm处类似于声子伴线的光谱结构.
刘峥嵘谢家纯郭俊福李雪白赵朝阳刘文齐傅竹西
关键词:ZNO脉冲激光沉积深能级
ZnO/Si异质结特性研究
宽带隙(WBG)半导体材料ZnO具有禁带宽、激子能量大、高化学稳定性和热稳定性等特点,使得目前高质量ZnO材料和器件的制备成为国际上的研究热点之一。ZnO在气体传感器、太阳能电池、紫外光电探测及激光器等许多领域具有广阔的...
刘峥嵘
关键词:宽带隙半导体材料
文献传递
共1页<1>
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