您的位置: 专家智库 > >

柯文明

作品数:8 被引量:17H指数:2
供职机构:华中科技大学材料科学与工程学院材料成形与模具技术国家重点实验室更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家科技重大专项更多>>
相关领域:化学工程电子电信理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 7篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇化学工程
  • 3篇电子电信
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 3篇氧化锌
  • 3篇沉淀法
  • 2篇纳米
  • 2篇纳米粉
  • 2篇纳米粉末
  • 2篇化学沉淀
  • 2篇化学沉淀法
  • 2篇溅射
  • 2篇粉末
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化铝
  • 1篇导电薄膜
  • 1篇等离子
  • 1篇电阻率
  • 1篇多孔
  • 1篇氧化物
  • 1篇氧化钇
  • 1篇氧化钐
  • 1篇氧化锆
  • 1篇原位

机构

  • 8篇华中科技大学
  • 1篇三峡大学

作者

  • 8篇柯文明
  • 7篇李晨辉
  • 3篇史玉升
  • 3篇黄帅
  • 2篇王小伟
  • 2篇胡加佳
  • 1篇吴甲民
  • 1篇孙宜华
  • 1篇曹君
  • 1篇陈诚
  • 1篇黄林芸

传媒

  • 3篇无机材料学报
  • 2篇中国陶瓷
  • 1篇硅酸盐通报
  • 1篇材料导报

年份

  • 2篇2016
  • 1篇2015
  • 1篇2014
  • 1篇2012
  • 2篇2011
  • 1篇2008
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
沉淀法制备超高致密度GZO陶瓷靶材用纳米氧化镓
2014年
为开发适合制备ZGO靶材的超细β-Ga2O3纳米粉末,以金属镓、硝酸、盐酸、氨水为原料,对化学沉淀法制备纳米氧化镓粉末的过程进行了研究。通过严格控制实验条件制备出了单斜相、粒度分布均匀的β-Ga2O3纳米粉末,并以其为原料制备了可直流磁控溅射的超高密度GZO陶瓷靶材。
柯文明李晨辉胡加佳
关键词:化学沉淀法GA2O3纳米粉末GZO
稀土氧化物对SPS烧结AlN陶瓷电性能的影响被引量:6
2015年
以AlN粉末为原料,添加稀土氧化物(Sm2O3、Y2O3),在氮气气氛下,采用SPS烧结方法制备AlN陶瓷,研究稀土氧化物的掺杂对AlN烧结试样相组成、微观结构和电性能的影响。实验表明:Sm2O3、Y2O3与Al2O3反应生成的液相稀土金属铝酸盐会提高AlN陶瓷致密度,且在晶界处形成导电通路降低了AlN陶瓷电阻率。随着Sm2O3掺杂量的增加,晶界相逐渐由Sm4Al2O9过渡到SmAlO3,且Sm4Al2O9对电阻率贡献最大。其中,3wt%Sm2O3掺杂AlN陶瓷电阻率最低,为1.32×1010Ω·cm,相对密度为99.33%。Y2O3掺杂量的增加会使晶界处钇铝酸盐由富铝酸盐向富钇酸盐转变,三者电阻率相差较小,Y2O3含量高于3wt%的AlN陶瓷电阻率维持在1×1010Ω·cm左右,其中4wt%Y2O3掺杂AlN相对密度最高为99.08%。
黄林芸李晨辉柯文明史玉升贺智勇张启富
关键词:氮化铝氧化钐氧化钇放电等离子烧结
氧化锌镓薄膜的制备技术和研究现状被引量:1
2011年
介绍了制备GZO薄膜的各种方法,如磁控溅射法、化学气相沉积法、溶胶-凝胶法、脉冲激光沉积法、喷雾热解法;阐述了这些方法的镀膜原理,并比较了各种工艺的优缺点。综述了GZO薄膜在单层膜领域、复合多层膜领域有机物基底上镀膜领域和薄膜后续退火处理领域的研究现状。提出了产业化过程中需要解决的问题:①制备高密度、高溅射稳定性和导电性优良的靶材;②完善现有镀膜工艺条件;③制备符合不同生产要求的薄膜。
王小伟李晨辉柯文明胡加佳黄帅
关键词:透明导电氧化物电阻率
基底温度对直流溅射Nb掺杂TiO_2薄膜性能的影响被引量:6
2012年
采用陶瓷靶直流磁控溅射,以玻璃为基底制备2.5wt%Nb掺杂TiO2薄膜,控制薄膜厚度在300~350 nm,研究了不同基底温度下所制得薄膜的结构、形貌和光学特性.XRD分析表明,基底温度为150℃、250℃和350℃时,薄膜分别为非晶态、锐钛矿(101)和金红石相(110)结构.基底温度250℃时,锐钛矿相薄膜的晶粒尺寸最大,约为32 nm.薄膜表面形貌的SEM分析显示,薄膜粗糙度和致密度随基底温度升高得到改善.薄膜的平均可见光透过率在基底温度为250℃以内约为70%,随基底温度升高至350℃,平均透过率下降为59%,金红石相的存在不利于可见光透过.Nb掺杂TiO2薄膜的光学带宽在3.68~3.78 eV之间变化.基底温度为250℃时,锐钛矿相薄膜的禁带宽度最大,为3.78 eV.
黄帅李晨辉孙宜华柯文明
关键词:基底温度TIO2直流磁控溅射显微结构光学特性
沉淀法制备纳米氧化铟粉末
2011年
为了开发适合工业化大规模生产超细且分散性好的In2O3粉体的方法,作者以金属铟、盐酸、氨水为原料,对化学沉淀法制备纳米氧化铟粉末的过程进行了研究。通过严格控制实验条件制备出了单相、分散性好、晶粒尺寸约为30nm,粒度分布范围窄的立方晶系纳米In2O3球形粉末。
胡加佳李晨辉柯文明王小伟黄帅
关键词:化学沉淀法IN2O3纳米粉末
以氨化碱式氯化锌为前驱体制备花状多孔氧化锌被引量:2
2016年
用化学沉淀法结合后续的煅烧工艺制备了三维花状多孔氧化锌.用XRD、FE-SEM、TG-DTA和BET对产物进行分析.沉淀法制得的前驱体为花状氨化碱式氯化锌(Zn5(OH)8Cl2·xH20 . yNH3 , 记为ZHC-NH3) ,ZHC-NH3是氨分子插入到碱式氯化锌(Zn5(OH)8Cl2.H20 ,记为ZHC)层状结构的层间所得的产物.通过水浴加热可以除去层间氨分子,得到ZH C纯相.ZHC-NH3 前驱体花状结构的直径在80-150μm 之间,是由很多互相穿插的纳米片组成,纳米片的厚度为.100nm,直径为.20μm.ZHC-NH3 经过煅烧,释放出H20 、NH3* HC1等挥发性气体,得到多孔的氧化锌.这些多孔氧化锌良好继承了 ZHC-NH3 前驱体的花状形貌.本文提出了ZHC-Nh3向ZnO转变的可能的分解机制,也讨论了花状ZHC-NH3 前驱体的合理的生长机理.
曹君李晨辉吴甲民柯文明史玉升
关键词:沉淀法
ZAO靶材及薄膜的研究
氧化锌(ZnO)是一种具有六方纤锌矿晶体结构的宽禁带II-VI族半导体材料,由于其优良的特性,在太阳能电池、紫外探测器、声表面波器件、气敏传感器、透明电极等方面得到了广泛的应用。近年来,由于Al掺杂的ZnO薄膜(ZAO)...
柯文明
关键词:氧化锌溅射法导电薄膜
文献传递
利用控制烧结曲线及其拓展预测ZrO_2陶瓷烧结过程被引量:1
2016年
将钇稳定氧化锆(3Y-PSZ)冷等静压素坯在原位测量仪中进行恒速无压烧结,升温速率分别为2、5、8℃/min,通过原位测量仪保存图像,并用软件Image-Pro Plus 6.0对图像进行处理,得到收缩数据,建立氧化锆的控制烧结曲线(MSC),成功计算出其烧结活化能Q为685.7 k J/mol。并对控制烧结曲线进行扩展(EMSCE),模拟出恒定加热速率下整个烧结过程中温度与相对密度的关系,而不仅仅是预测最终密度。该研究提供了一种预测材料烧结制度的可能性,确保了所选烧结时间和烧结温度的高精确度和可重复性。
陈诚李晨辉柯文明史玉升贺智勇张启富
关键词:氧化锆
共1页<1>
聚类工具0