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孟诗云

作品数:7 被引量:3H指数:1
供职机构:四川大学高分子科学与工程学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学电子电信一般工业技术轻工技术与工程更多>>

文献类型

  • 3篇学位论文
  • 2篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 7篇理学
  • 1篇电子电信
  • 1篇轻工技术与工...
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 3篇乙烯基
  • 3篇烯基
  • 3篇相容性
  • 3篇共混
  • 2篇酸酯
  • 2篇碳酸酯
  • 2篇嵌段
  • 2篇嵌段聚合物
  • 2篇自组装
  • 2篇羟基
  • 2篇羟基苯
  • 2篇聚碳酸
  • 2篇聚碳酸酯
  • 2篇基底
  • 2篇共混体
  • 2篇共混体系
  • 2篇共聚
  • 2篇共聚物
  • 2篇P
  • 2篇N-

机构

  • 7篇四川大学

作者

  • 7篇孟诗云
  • 4篇李光宪
  • 2篇姜苏俊
  • 1篇杨其
  • 1篇黄亚江

传媒

  • 2篇2001年全...
  • 1篇高分子学报
  • 1篇化学进展

年份

  • 3篇2004
  • 1篇2003
  • 2篇2001
  • 1篇2000
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
含4-羟基苯乙烯基的嵌段共聚物
孟诗云
关键词:嵌段聚合物自组装基底
PC及TMPC与P(An-Vph)的共混物中的相互作用及理论模拟研究
本文选择了因甲基的存在而使苯环富集电子的四甲基双酚A聚碳酸酯(TMPC)代替PC与P(VPh-An)进行了共混相容性的研究.实验结果表明P(An-VPh)在An的摩尔百分含量为0-58.9M)ol℅时与TMPC相容.红外...
孟诗云李光宪
关键词:相互作用聚碳酸酯
文献传递
含4-羟基苯乙烯基的嵌段共聚合物在二维有限界面的自组装行为研究
有机超薄膜表面上形成的微米至亚微米级的规则表面结构技术又称为表面图案化,它在超分子科学、材料科学,微电子学及细胞生物学等方面均有重要的科学意义和应用价值.二维有限界上嵌段高分子聚合物的自组装则是实现表面图案化结构的一个可...
孟诗云
关键词:嵌段聚合物自组装基底
PC/P(S-An-VPh)共混体系的相容性研究
本实验研究工作先合成了P(S-An-VPh),然后将其与PC共混.由于VPh的引入,使得分子内的排斥性相互作用和分子间的特殊相互作用共存于同一共混体系中.由于协同作用,得到了相容条件更为缓和的相容体系,成功地将这种思想从...
姜苏俊孟诗云李光宪
关键词:共混体系相容性
文献传递
聚(丙烯腈-对羟基苯乙烯)与聚碳酸酯及聚四甲基双酚-A碳酸酯的相容性研究
2004年
在聚 (丙烯腈 苯乙烯 ) [P(S AN) ]中苯乙烯 (S)苯环的对位引入羟基基团获得聚 (丙烯腈 对羟基苯乙烯 ) [P(AN VPh) ],P(AN VPh)与聚碳酸酯 (PC)体系及P(AN VPh)与聚四甲基双酚 A碳酸酯 (TMPC)体系的相容性实验结果表明 ,由于对羟基苯乙烯 (VPh)的引入 ,使体系中同时存在“分子间特殊相互作用”和“分子内排斥性相互作用”两种效应 ,从而使体系的相容性获得改善 .P(AN VPh)共聚物中AN的摩尔百分含量在 12 3%~ 4 9 5 %范围内时 ,P(AN VPh) PC共混物体系为热力学均相体系 ,采用TMPC替代PC与P(AN VPh)共混时 ,共聚物中AN的摩尔百分含量在 0~ 5 8 9mol%范围内TMPC P(AN VPh)共混物体系为热力学相容体系 .通过Flory Huggins平均场理论计算与拟合所获得的相容窗口相图与实验值较为吻合 ,同时获得相互作用参数χTMPC -VPh=- 0 19.
孟诗云姜苏俊李光宪
关键词:聚碳酸酯相容性
用于光致抗蚀剂的聚对羟基苯乙烯的合成及其进展被引量:3
2004年
随着集成电路芯片的发展 ,生产物理和化学性质均一的高分子光阻剂得到了各信息产业国的重视。到目前为止 ,含对羟基苯乙烯基的高分子光阻剂已成为光刻蚀 0 11μm线宽芯片的关键技术。本文综述了目前合成窄分布的含对羟基苯乙烯基的高分子光阻剂的各种方法 ,在此基础上比较了各种合成方法的优缺点 ,为合成窄分布的含对羟基苯乙烯基的高分子光阻剂提供了必要的指导。
孟诗云李光宪杨其黄亚江
关键词:光致抗蚀剂集成电路芯片活性自由基聚合
BAPC及TMPC与三元共聚物共混体系相容性的研究
对于双酚A聚碳酸酯(BAPC)来说,由于其优良的物理和加工性能,使其在工程塑料中 占有重要的地位.然而,其弱的抗应力开裂、明显的双折射效应、耐溶剂差、摩擦系数大等缺陷严重地制约着它的应用.如果能通过共混的方法使其优点能得...
孟诗云
关键词:相容性平均场理论
文献传递
共1页<1>
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