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关贵清: 作品数：37 被引量：22H指数：3; 供职机构：宁德师范学院更多>>; 发文基金：国家自然科学基金宁德市科学技术计划项目福建省自然科学基金更多>>; 相关领域：理学电子电信自动化与计算机技术经济管理更多>>

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锐钛矿相TiO2纳米电极材料的制备及储锂性能研究: 2017年; 纳米结构锐钛矿相TiO_2材料具有储锂性能,可用于锂离子电池的负极材料.为探索不同的结构和形貌对储锂性能产生的影响,本文分别用溶胶凝胶法和静电纺丝法制得纯锐钛矿相的TiO_2纳米颗粒粉末(TiO_2/NPs-400)和TiO_2纳米纤维(TiO_2/NFs-400),并对所得样品的晶相结构和形貌进行了表征.然后通过充放电测试对比研究了它们的储锂性能.结果表明,无论是TiO_2/NPs-400还是TiO_2/NFs-400由于都是纯的锐钛矿相并具有较小的晶粒尺寸,在前50次循环中均表现出优秀的储锂性能.但TiO_2/NFs-400由于具有多孔狭长孔道结构的优势,它的循环性能和倍率性能优于TiO_2/NPs-400.; 关贵清邹明忠林建平; 关键词：TIO2纳米颗粒锂离子电池负极材料

紫外光学薄膜在吸收基片上的光学透射率的推算被引量：1: 2005年; 利用光学薄膜的界面反射和透射的光学原理,通过对空气─薄膜─基片所构成的单层膜系统光学特性的分析,在考虑基片吸收的情况下推导出单层膜系统的透射率公式,依据透射率公式可以求解薄膜的光学常数.; 关贵清; 关键词：透射率光学常数

不同制备方法下银薄膜的光电学性质比较被引量：1: 2016年; 分别用磁控溅射和热蒸发的方法,在空白石英基片上室温沉积厚度300 nm的银薄膜样品,研究不同制备方法对样品的微观结构和光电学性质的影响.微观结构利用X-射线粉末衍射仪和扫描电镜观测,光电学性质应用分光光度计及Van der Pauw方法检测.结果表明,制备方法不同引起银薄膜样品的晶粒择优取向不同,磁控溅射制备的银薄膜(Sputtering Ag)的结晶性能比热蒸发制备的银薄膜(Evaporation Ag)结晶性能好;两种方法制备的银薄膜的光学反射率随波长的变化规律基本相同,在可见光和红外光区域,Evaporation Ag的光学反射率比Sputtering Ag稍高,且均超过95%;薄膜的电阻率都接近银块体材料的电阻率,但Sputtering Ag的电阻率为2.6μΩ·cm比Evaporation Ag的电阻率(2.8μΩ·cm)小.; 林建平沈志成王礼枫莫小强关贵清敖晖; 关键词：银薄膜磁控溅射热蒸发

二平行带电圆环相互作用能的推导: 2007年; 根据电场能量的定义,推导了两有限大同轴平行均匀带电圆环电荷分别分布在两圆环侧面和分布在两圆环上下平面之间的互作用能。; 关贵清; 关键词：静电场能量带电圆环

ZnO纳米带和纳米环静电能和弹性势能的分析和计算被引量：1: 2005年; 氧化锌是一种宽禁带半导体材料,它被广泛地应用于光电子学的各个领域,随着纳米科学的发展,近年来出现越来越多的氧化锌纳米材料的研究。本文从静电能和弹性势能的角度出发,分析了ZnO纳米单晶从带状通过自身缠绕成环状的生长机制,从理论上说明了纳米环能够形成的物理机理以及在何种条件下才能生长出纳米环。; 关贵清; 关键词：ZNO纳米带纳米环静电能弹性势能

真空退火对AAO模板上Ag纳米颗粒膜的结构和光学性质的影响: 2013年; 采用蒸发镀膜方法,在孔径约为200 nm的多孔阳极氧化铝(AAO)模板上室温沉积名义厚度为300 nm的银薄膜样品,研究真空退火对AAO模板上Ag纳米颗粒膜的结构和光学性质的影响。微观结构利用X射线衍射仪和扫描电镜观测,光学性质采用分光光度计检测。结果表明,(111)取向的银衍射峰强度随退火温度的升高逐渐增强,当退火温度为250℃时达到最大值;银纳米颗粒平均直经随退火温度的升高呈现先缓慢增大,后迅速增大,再减小的态势,当退火温度为250℃时达到最大值140 nm,比制备态大47 nm;薄膜经真空退火后,漫反射率普遍得到提高,在可见光区域,当退火温度为200℃时,漫反射率达到最大,其值为80%,大约为制备态的3倍左右。; 林建平关贵清张芳宋萌萌黄光彩; 关键词：AAO模板真空退火光学性质

一种智能环境监控系统: 本实用新型公开了一种智能环境监控系统，包括微控制系统、温湿度采集模块、光线强度采集模块、显示模块和按键模块；以八位单片机为主控电路，通过温湿度采集模块和光线强度采集模块采集环境的温湿度信息和光线强度信息，通过在显示模块中...; 关贵清

一种高效率光电设备清洗装置: 本发明涉及光电设备清洗技术领域，且公开了一种高效率光电设备清洗装置，包括底座，所述底座内壁的底部固定装配有第一电机，所述第一电机的输出轴套接有第一圆杆。该高效率光电设备清洗装置，通过第一电机与第二电机的配合使用，第一电机...; 关贵清林建平陈石龙敖晖

溅射功率和工作气压对磁控溅射铬薄膜光电学性质的影响被引量：1: 2012年; 采用直流磁控溅射方法在石英基片上沉积铬薄膜.研究溅射功率、工作气压对铬薄膜结构、电学和光学性质的影响.利用X射线衍射仪、分光光度计和Van der Pauw方法分别检测薄膜的结构、光学和电学特性,利用德鲁特模型和薄膜的透射、反射光谱计算薄膜的厚度和光学常数.结果表明:制备的铬薄膜为体心立方的多晶态;在工作气压0.6Pa一定时,随着溅射功率从40W增加到120W,沉积速率呈非线性增加,薄膜更加致密,电阻率连续降低,在550nm波长处,薄膜的折射率从3.52增大到功率80W时的最大值(3.88),尔后逐渐减小至3.69;消光系数从1.50逐渐增大到2.20;在溅射功率80W一定时,随着工作气压从0.4Pa增加到1.2Pa,沉积速率呈近线性降低,薄膜的电阻率逐渐变大,在550nm波长处,折射率从3.88减小到3.62,消光系数从2.55减小到1.48.; 林建平吴杨微关贵清黄光彩赖发春; 关键词：磁控溅射溅射功率工作气压

一种新型物理材料低频噪声信息采集用适配器: 本实用新型属于低频噪声信息采集技术领域，公开了一种新型物理材料低频噪声信息采集用适配器，设置有旋转底盘，所述旋转底盘的中部焊接安装有十字架杆，所述十字架杆的末端分别安装有平板振动式激发器、气流振动式激发器、气体非常态激振...; 关贵清; 文献传递