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龙胡

作品数:17 被引量:0H指数:0
供职机构:华中科技大学更多>>
相关领域:一般工业技术金属学及工艺电子电信化学工程更多>>

文献类型

  • 17篇中文专利

领域

  • 4篇一般工业技术
  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 5篇氮化
  • 5篇电池
  • 5篇电极
  • 5篇阵列
  • 5篇阵列结构
  • 5篇感器
  • 5篇传感
  • 5篇传感器
  • 4篇氮化硼
  • 4篇微型电池
  • 4篇激光
  • 4篇
  • 3篇碳膜
  • 3篇微米
  • 3篇纳米
  • 3篇金属
  • 3篇光纤
  • 2篇氮化硅
  • 2篇氮化硅薄膜
  • 2篇氮化硼纳米管

机构

  • 17篇华中科技大学

作者

  • 17篇史铁林
  • 17篇龙胡
  • 8篇汤自荣
  • 6篇习爽
  • 6篇廖广兰
  • 5篇夏奇
  • 4篇刘丹
  • 4篇徐亮亮
  • 3篇周洋
  • 2篇蒋淑兰
  • 2篇刘佳鑫
  • 2篇王哲
  • 2篇高阳
  • 2篇胡浩
  • 2篇龚渤
  • 1篇张雷
  • 1篇张晓斌
  • 1篇张翼

年份

  • 4篇2024
  • 3篇2023
  • 2篇2022
  • 1篇2017
  • 1篇2016
  • 2篇2015
  • 1篇2014
  • 3篇2012
17 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种氮化硼原位复合增强的金属增材一体化制造方法
本发明属于增材制造技术领域,具体涉及一种氮化硼原位复合增强的金属增材一体化制造方法。本发明将金属粉末打印成型的过程中,在熔融的金属粉末表面催化含硼粉末与含氮原料原位反应生成氮化硼纳米结构阵列,打印金属件的同时在金属件中包...
龙胡史铁林周洋刘清原
一种碳微电极阵列结构的制备方法
本发明属于碳微机电技术领域,为一种碳微电极阵列结构的制备方法。其步骤包括①光刻步骤,得到阵列的碳微结构部分;②沉积金属步骤:在所得到的碳微结构表面沉积一层或多层金属层;③热解步骤:在惰性气体氛围或惰性混合气体氛围环境下,...
汤自荣史铁林徐亮亮龙胡习爽刘丹夏奇廖广兰
文献传递
一种利用直流等离子体制备氮化硼纳米管的装置及方法
本发明属于纳米材料领域,具体涉及一种利用直流等离子体制备氮化硼纳米管的装置及方法,所述制备装置包括输气模块、送粉模块、等离子炬模块及水冷模块,所述等离子炬模块包括等离子炬喷头和套接在所述等离子炬喷头出口的冷却腔体,所述输...
龙胡史铁林罗钰龙马炳阳王哲赵俊峰
一种气辅助水导激光的水束生成装置
本发明属于水导激光加工技术领域,具体公开了一种气辅助水导激光的水束生成装置,包括从上至下依次连接的顶座、顶板、中间板和底板,顶板顶部中间开设有用于盛放光学透镜的阶梯孔,中间板具有伸入所述顶板内部的第一环形凸缘、第二环形凸...
史铁林苏卫东龙胡胡心兰
利用激光辅助制备晶圆级MEMS气体传感器的方法及其产品
本发明公开了一种利用激光辅助制备晶圆级MEMS气体传感器的方法及其产品,属于微纳传感器领域,方法在微加热器上指定区域涂覆前驱体胶体溶液,形成前驱体薄膜;一个晶圆级MEMS气体传感器上不同微加热器上涂覆的前驱体胶体溶液的成...
龙胡史铁林刘佳鑫廖广兰胡亚明
一种用于水导激光的稳定水束生成设备及方法
本发明属于水导激光加工相关技术领域,其公开了一种用于水导激光的稳定水束生成设备及方法,设备包括加压水腔,加压水腔包括下基体、喷嘴片及连接于下基体一端的喷嘴底座,喷嘴底座的一端开设有出水口,喷嘴片设置在喷嘴底座的另一端内;...
史铁林张晓斌龙胡
一种三维跨尺度碳电极阵列结构及其制备方法
本发明公开了一种三维跨尺度碳电极阵列结构及其制备方法,该方法包括如下步骤:(1)清洗硅片,去除表面杂质和氧化层;(2)在硅片上涂覆负性光刻胶,并进行前烘;(3)用PDMS模板作为压印模板,进行压印工艺,得到光刻胶半球阵列...
汤自荣蒋淑兰史铁林夏奇高阳龙胡习爽
一种微米级碳管网的制备方法及产品
本发明属于碳材料相关技术领域,并公开了一种微米级碳管网的制备方法及产品。该方法包括下列步骤:S1对碳源和催化剂加热,使其在泡沫金属表面进行化学气相沉积,以此在所述泡沫金属表面形成包覆碳纳米管的多层石墨薄片,其中,所述催化...
龙胡史铁林王成晖周洋
一种集成碳纳米褶皱的三维碳微纳电极阵列结构制备方法
本发明提供一种集成碳纳米褶皱的三维碳微纳电极阵列结构的制备方法,包括:光刻步骤,得到带有电极图案的光刻胶微结构;沉积碳膜步骤:在上面得到的光刻胶微结构上沉积一层碳膜;热解步骤:在惰性气体或其混合气体环境下进行多步热解,各...
汤自荣史铁林龙胡习爽刘丹徐亮亮廖广兰夏奇
文献传递
一种氮化硅微米管制造方法
本发明公开了一种氮化硅微米管的制备方法,该方法将去除保护层的光纤表面涂覆一层均匀的石墨粉后在300~600℃的温度区间内热解,使光纤表面形成均匀厚度的碳膜;再将光纤在氮气条件下以1100~1600℃的温度区间高温加热,使...
汤自荣胡浩龙胡龚渤史铁林
文献传递
共2页<12>
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