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蒋高松

作品数：5 被引量：5H指数：1
供职机构：北京科技大学更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇理学

主题

  • 4篇金刚石薄膜
  • 2篇电学
  • 2篇微波等离子体
  • 2篇微波法
  • 2篇细晶
  • 2篇细晶粒
  • 2篇金刚石膜
  • 2篇晶粒
  • 2篇工作气体
  • 2篇MPCVD
  • 1篇衍射
  • 1篇射线衍射
  • 1篇微波功率
  • 1篇X-射线
  • 1篇X-射线衍射
  • 1篇CVD

机构

  • 5篇北京科技大学

作者

  • 5篇蒋高松
  • 4篇吕反修
  • 4篇杨保雄
  • 2篇叶锐曾

传媒

  • 2篇北京科技大学...

年份

  • 1篇1996
  • 3篇1992
  • 1篇1991
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
微波等离子体CVD法(MPCVD)低温沉积金刚石膜的研究
蒋高松
关键词：微波等离子体CVD金刚石膜
微波法低温沉积细晶粒金刚石薄膜
本发明提供了一种用化学气相沉积工艺沉积可用于光学及电学领域的金刚石薄膜技术。其特征在于工作气体中含有0.1-10%的高纯氧气，0.1-10%的高纯甲烷，剩余为高纯氢气，工作气体的压力为1-100t，在金则石膜沉积过程中微...
杨保雄吕反修蒋高松叶锐曾
文献传递
MPCVD低温沉积金刚石薄膜及其特征被引量：5
1992年
应用微波等离子体辅助的化学气相沉积(MPCVD)工艺成功地实现了金刚石薄膜在700-790℃范围内的低温沉积.发现氧在CH_4-H_2系统中的引入不仅可以减小或消除Raman谱上位于1550cm^(-1)的非金刚石特征峰,而且还使位于1332cm^(-1)的金刚石特征峰半高宽显著减小。正是由于原子态氧在较低温度下具有远比原子态氢强烈得多的对石墨和类金刚石碳的刻蚀作用,才用金刚石的低温生长得以顺利进行。本文详细报导了金刚石薄膜低温沉积工艺及其所得薄膜的表征结果,并就Bachmann等最近提出C-H-O金刚石相图针对低温沉积数据进行了讨论。
吕反修杨保雄蒋高松
关键词：金刚石薄膜微波等离子体
微波法低温沉积细晶粒金刚石薄膜
本发明提供了一种用化学气相沉积工艺沉积可用于光学及电学领域的金刚石薄膜技术。其特征在于工作气体中含有0.1—10％的高纯氧气，0.1—10％的高纯甲烷，剩余为高纯氢气，工作气体的压力为1—100τ，在金刚石膜沉积过程中微...
杨保雄吕反修蒋高松叶锐曾
文献传递
低温生长金刚石薄膜及其界面结构X-射线衍射研究
1992年
采用X-射线衍射(包括小角度衍射方法)研究了低温气相生长金刚石薄膜和单晶硅衬底之间的界面过度层。发现在较高温度下(700℃)过渡层为α-SiC,在较低沉积温度范围(580-290)℃过渡层则由α-SiC和SiO_2所构成。对界面层中α-SiC和SiO_2的晶体结构以及金刚石薄膜面间距进行了讨论。
吕反修蒋高松杨保雄
关键词：金刚石薄膜X-射线衍射
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