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梅赫赓

作品数：18 被引量：0H指数：0
供职机构：清华大学更多>>
相关领域：电子电信文化科学轻工技术与工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 18篇中文专利

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇轻工技术与工...
  • 1篇文化科学

主题

  • 10篇晶圆
  • 8篇刷洗
  • 8篇抛光
  • 7篇抛光液
  • 5篇毛刷
  • 4篇基板
  • 4篇侧板
  • 3篇修整器
  • 3篇振动
  • 3篇失衡
  • 3篇刷子
  • 3篇随动
  • 3篇扭矩
  • 3篇抛光垫
  • 3篇抛光装置
  • 3篇清洗液
  • 3篇装卸
  • 3篇可旋转
  • 3篇机械手
  • 3篇高频振动

机构

  • 18篇清华大学

作者

  • 18篇梅赫赓
  • 18篇路新春
  • 18篇何永勇
  • 13篇裴召辉
  • 11篇雒建斌
  • 6篇沈攀
  • 5篇赵德文
  • 5篇王同庆
  • 4篇许振杰
  • 4篇张连清
  • 3篇黄雅婷
  • 1篇潘燕

年份

  • 1篇2015
  • 2篇2013
  • 5篇2012
  • 10篇2011
共 18 条 记 录，以下是 1-10
全选 清除 导出
排序方式：
晶圆清洗装置及利用该晶圆清洗装置清洗晶圆的方法
本发明公开了一种晶圆清洗装置及利用所述晶圆清洗装置清洗晶圆的方法，晶圆清洗装置设置在抛光设备的抛光工位与缓冲工位之间，晶圆清洗装置包括：多个扇形喷头，扇形喷头的喷口朝向上以将清洗液以扇形形状向上喷射到由抛光头带动从抛光工...
路新春潘燕沈攀梅赫赓赵德文王同庆何永勇
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一种用于晶圆的刷洗装置
本实用新型公开了一种用于晶圆的刷洗装置，包括机架；支撑部件，所述支撑部件设置在所述机架上以支撑晶圆；清洗液供给单元，所述清洗液供给单元设置在机架上用于向晶圆的表面施加清洗液；以及一对刷子，所述一对刷子包括刷子主体和设置于...
路新春梅赫赓裴召辉黄雅婷何永勇雒建斌
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用于晶圆的刷洗装置
本发明公开了一种用于晶圆的刷洗装置，所述用于晶圆的刷洗装置包括：密封箱，所述密封箱内限定有容纳腔，其中所述容纳腔的侧壁上设有晶圆取放孔；第一门体，所述第一门体设在所述侧壁上用于打开和关闭所述晶圆取放孔；支撑件，所述支撑件...
何永勇裴召辉梅赫赓路新春
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晶圆清洗支撑轮组件及晶圆竖直清洗装置
本实用新型提供一种晶圆清洗支撑轮组件晶圆竖直清洗装置，包括转轴、支撑轮、第一定位件、第二定位件和弹性件；支撑轮的外周面上设置有周向切槽，支撑轮设在转轴的一端以随转轴旋转且支撑轮沿转轴的轴向在预定区段内可移动；第一定位件安...
路新春裴召辉梅赫赓何永勇
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新型化学机械抛光装置
本实用新型涉及半导体制造设备领域，特别是涉及一种新型化学机械抛光装置。该装置的结构包括：由电机驱动旋转的抛光盘，固定于抛光盘上方的抛光液输送口，位于抛光盘上方的抛光头，以及安装于抛光头下表面具有曲线轮廓的抛光垫；待抛光的...
路新春梅赫赓何永勇雒建斌
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化学机械抛光机的抛光头支架
本实用新型公开一种化学机械抛光机的抛光头支架，包括：水平基板，所述水平基板形成有在其厚度方向上贯通的凹槽，所述凹槽在水平基板的纵向一端敞开且朝向水平纵向另一端延伸；和支撑侧板，所述支撑侧板分别与水平基板相连且分别位于所述...
路新春许振杰何永勇王同庆沈攀赵德文梅赫赓张连清裴召辉雒建斌
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用于晶圆的刷洗装置
本发明公开了一种用于晶圆的刷洗装置，包括机架；支撑部件，所述支撑部件设置在所述机架上以支撑晶圆；清洗液供给单元，所述清洗液供给单元设置在所述机架上用于向晶圆的表面施加清洗液；以及一对刷子，所述一对刷子包括刷子主体和设置于...
路新春梅赫赓裴召辉黄雅婷何永勇雒建斌
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化学机械抛光机及具有它的化学机械抛光设备
本发明公开一种化学机械抛光机，包括：工作平台，抛光盘，修整器和抛光液输送装置，装卸平台，抛光头，机械手，和抛光头支架，所述抛光头支架安装在工作平台上表面上且包括水平基板和支撑侧板，所述水平基板形成有在其厚度方向上贯通的凹...
路新春许振杰何永勇王同庆沈攀赵德文梅赫赓张连清裴召辉雒建斌
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用于晶圆的刷洗装置和刷洗方法
本发明公开了一种用于晶圆的刷洗装置和刷洗方法，所述用于晶圆的刷洗装置包括：机架；第一和第二毛刷，所述第一和第二毛刷相对地且间隔开地安装在所述机架上以分别用于刷洗晶圆的两侧表面；和第一和第二清洗液供给单元，所述第一和第二清...
路新春梅赫赓裴召辉何永勇
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用于晶圆的刷洗装置
本发明公开了一种用于晶圆的刷洗装置，所述用于晶圆的刷洗装置包括：机架；支撑件，支撑件设在机架上以用于使晶圆可旋转地支撑于支撑件上；以及第一和第二毛刷组件，第一和第二毛刷组件相对地且间隔开地安装在机架上以分别用于刷洗晶圆的...
路新春裴召辉梅赫赓何永勇
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共2页<12>
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