马兴华
- 作品数：10 被引量：1H指数：1
- 供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 发文基金：上海市自然科学基金更多>>
- 相关领域：自动化与计算机技术理学机械工程建筑科学更多>>
- 高效/超高效过滤器自动扫描检漏系统的研制
- 2013年
- 基于欧洲标准EN 1822构建了一套高效/超高效过滤器自动扫描检漏系统。首先描述了扫描检漏测试台的整体管路系统,然后介绍了控制系统的硬件部署,接下来详述了扫描检漏的具体过程,最后对两台H14的高效过滤器进行了在线检测验证。该系统可检测多种尺寸规格和等级的高效/超高效过滤器,能够给出过滤器的局部和全局效率,以及漏点的坐标范围。
- 马兴华张友宝黄惠杰朱忠林何广荣
- 关键词：MODBUS协议
- 用于步进扫描光刻机的扫描狭缝装置
- 一种用于步进扫描光刻机的扫描狭缝装置，由四个相同的刀片组件通过四个限位连接件连接而成，四个限位连接件将相邻刀片组件两两进行紧连，四个刀片组件按旋转对称方式集成到两个正交方向上，相邻刀片组件的刀口相互垂直，四个刀口共面且与...
- 林栋梁马兴华任冰强程伟林张友宝钱珍梅屈建峰孙征宇黄惠杰
- 文献传递
- 一种光刻机照明控制测试系统及方法
- 本发明公开了一种光刻机照明控制测试系统及方法，控制测试系统包括功能控制模块、性能测试与处理模块、报告生成模块和安全监测模块；测试方法包括对光场性能和光瞳性能进行测试及处理，并将处理结果传输给控制中心模块；根据性能测试与处...
- 张友宝马兴华胡小邦谢承科黄立华侯莉颖黄惠杰
- 大尺寸钕玻璃片包边界面剩余反射率检测装置及检测方法
- 一种大尺寸钕玻璃片包边界面剩余反射率检测装置及检测方法，检测装置包括激光器组件、探测器组件、扫描步进模块、定位模块、整机框架和整机控制系统。本发明能够对被测大尺寸钕玻璃片的四个包边界面的剩余反射率进行全覆盖扫描检测，检测...
- 张友宝黄惠杰曾爱军杨增辉张善华马兴华
- 文献传递
- 大尺寸钕玻璃片包边界面剩余反射率检测装置及检测方法
- 一种大尺寸钕玻璃片包边界面剩余反射率检测装置及检测方法，检测装置包括激光器组件、探测器组件、扫描步进模块、定位模块、整机框架和整机控制系统。本发明能够对被测大尺寸钕玻璃片的四个包边界面的剩余反射率进行全覆盖扫描检测，检测...
- 张友宝黄惠杰曾爱军杨增辉张善华马兴华
- 步进扫描光刻机的自消除振动力的扫描狭缝装置
- 一种步进扫描光刻机的自消除振动力的扫描狭缝装置，特点在于该装置包括狭缝基框、上组件、下组件、Y向平衡质量系统、右组件、左组件和X向平衡质量系统，本发明在不影响刀口的运动和定位的同时，可完全消除振动力。
- 林栋梁马兴华任冰强陈明黄惠杰
- 一种光刻机照明控制测试系统及方法
- 本发明公开了一种光刻机照明控制测试系统及方法，控制测试系统包括功能控制模块、性能测试与处理模块、报告生成模块和安全监测模块；测试方法包括对光场性能和光瞳性能进行测试及处理，并将处理结果传输给控制中心模块；根据性能测试与处...
- 张友宝马兴华胡小邦谢承科黄立华侯莉颖黄惠杰
- 文献传递
- 步进扫描光刻机的自消除振动力的扫描狭缝装置
- 一种步进扫描光刻机的自消除振动力的扫描狭缝装置，特点在于该装置包括狭缝基框、上组件、下组件、Y向平衡质量系统、右组件、左组件和X向平衡质量系统，本发明在不影响刀口的运动和定位的同时，可完全消除振动力。
- 林栋梁马兴华任冰强陈明黄惠杰
- 文献传递
- 用于步进扫描光刻机的扫描狭缝装置
- 一种用于步进扫描光刻机的扫描狭缝装置，由四个相同的刀片组件通过四个限位连接件连接而成，四个限位连接件将相邻刀片组件两两进行紧连，四个刀片组件按旋转对称方式集成到两个正交方向上，相邻刀片组件的刀口相互垂直，四个刀口共面且与...
- 林栋梁马兴华任冰强程伟林张友宝钱珍梅屈建峰孙征宇黄惠杰
- 文献传递
- 激光光强波动无关的248 nm退偏器检测方法被引量：1
- 2022年
- 退偏器在深紫外光刻机照明系统中具有重要作用。尽管相关的设计、制造、性能评估已有一些报道,但是,相应的检测手段大多工作在可见光波段,目前仍缺乏直接对深紫外特定波长应用的退偏器进行性能检测的方法。本文提出了一种与激光光强波动无关的248 nm退偏器检测方法,使用248.372 nm波长的KrF准分子激光器作为光源,利用预起偏和偏振分光设计克服了激光光强波动造成的不利影响。误差分析表明,该方法适用于退偏器性能检测,绝对系统误差小于0.1226%,随机误差约0.2000%。验证实验和稳定性实验表明,测量偏振度均值与理论值高度一致,重复性水平与分析预期相当,再现性水平仅略差于重复性水平。这一方法为248 nm光刻机照明系统中使用的退偏器提供了一种稳定有效的离线性能检测手段。
- 张灵浩夏克贵马兴华马兴华朱玲琳曾爱军Sergey Avakaw
- 关键词：深紫外光刻误差分析
