郭华聪
- 作品数：24 被引量：1H指数：1
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- 相关领域：理学电子电信核科学技术更多>>
- 离子束成膜技术
- 郭华聪
- 关键词：离子束溅射离子注入
- 多离子束反应共溅射技术制备(Pb,La)TiO3铁电薄膜及薄膜物化性能表征
- 1994年
- 研制了多离子束反应溅射技术并运用该技术在多种衬底上制备晶态（Ｐｂ，Ｌａ）ＴｉＯ３铁电薄膜。运用多种分析技术对铁电薄膜的物化性能进行了表征。发现在铁电薄膜的近表面有富铅层。测试了铁电薄膜的电滞回线、矫顽场、折射率、吸收系数等电学和光学参数。利用该技术可在较低衬底温度下在位制备组分可调、附着力强的外延或高度择优取向的铁电薄膜。
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- 关键词：离子束铁电薄膜
- 多组元金属氧化物薄膜的制备方法
- 本发明公开了一种采用多离子束反应共溅射装置制备金属氧化物薄膜的方法，采用四个离子源，其中三个为溅射离子源，对着衬底的第四个离子源在成膜前对衬底进行预溅射清洗，并在成膜过程中进行动态混合，通过使衬底加热、旋转，经由专门的通...
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- 文献传递
- 多组元金属氧化物薄膜的制备方法
- 本发明采用多离子束反应共溅射装置，选取高纯金属，以及双金属合金或双金属拼接靶等作为靶材，在使衬底旋转并对它进行高温加热的条件下，通过控制各溅射离子源的能量和束流，选择适当的工作气体和气压，在不同衬底材料上在位生长制备均匀...
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- 文献传递
- 高真空多靶磁控溅射方法和装置
- 高真空多靶磁控溅射方法和装置，涉及到等离子体薄膜沉积技术。本发明由增加的微波等离子体源产生等离子体，并输运到1—4个磁控溅射阴极表面，由加到靶片上的直流或高频溅射电压，吸引等离子体中的正离子轰击靶片起溅射作用。本发明在本...
- 郭华聪
- 文献传递
- 用离子束反应溅射方法成膜的装置
- 用离子束反应溅射方法成膜的装置，主要用于制作多成分膜和多成分多层膜。本发明在装置的靶室中设有2～4个溅射离子源，采用聚焦离子源，以基片为中心分布于基片周围。每个离子源前方相应有一组装有4块不同材料的靶片的转动靶。对着基片...
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- 文献传递
- 硅同质外延层的沟道效应研究
- 单晶外延生长技术在半导体领域内已得到广泛应用,为掌握高质量外延层的生长条件,必须研究在不同条件下得到的外延层中缺陷沿纵向分布情况。在这方面研究中,离子沟道效应就是一种十分有利的手段。
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- 文献传递
- Cr-Al离子束混合效应的RBS测量
- 1989年
- 离子束混合技术是改善金属表面性质的一种重要方法,为了研究膜和基体的混合状态,我们用N离子束轰击Al基体上的Cr膜,并用背散射方法测量了Cr-Al的离子束混合效应,还利用^(15)N(p,α)^(12)C反应,比较准确地测定了N离子的入射剂量。
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- 关键词：离子束混合核反应背散射
- 用离子束反应溅射方法成膜的装置
- 用离子束反应溅射成膜的装置，主要用于制作多成份膜和多成份多层膜。本发明在装置的靶室中设有2～4个溅射离子源，果用聚集离子源，以基片为中心分布于基片周围。每个离子源前方相应有一组装置有4块不同材料的靶片的转动靶。对着基片设...
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- 三维定角器的研制
- 沟道效应的研究以及它在固体研究中的应用正日趋深入和广泛。在这些研究中都要求被研究的晶体在空间精确定向。因此晶体必须要安放在定确器上,为此我们对这一装置进行了研制。我们研制的三维定角器由机械和数字控制两部分组成。
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