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文献类型

  • 6篇专利
  • 2篇期刊文章

领域

  • 2篇化学工程

主题

  • 6篇氢化炉
  • 5篇多晶
  • 5篇多晶硅
  • 4篇还原炉
  • 3篇喷淋
  • 3篇喷淋装置
  • 3篇驱动器
  • 3篇钟罩
  • 1篇导电
  • 1篇导电体
  • 1篇底盘
  • 1篇电极
  • 1篇运行时间
  • 1篇致密
  • 1篇三相电
  • 1篇喷嘴
  • 1篇歧化
  • 1篇歧化反应
  • 1篇气相沉积
  • 1篇汽化器

机构

  • 8篇昆明冶研新材...

作者

  • 8篇王世松
  • 7篇杨丞杰
  • 6篇李鸿祥
  • 6篇顾国宝
  • 4篇黄磊
  • 4篇何书玉
  • 4篇付金林
  • 4篇蔡永明
  • 4篇刘柯
  • 3篇赵桂洁
  • 3篇张新红
  • 2篇马启坤
  • 2篇罗平
  • 1篇曾亚龙
  • 1篇宋东明
  • 1篇李文光
  • 1篇李春林
  • 1篇周文韬

传媒

  • 2篇云南化工

年份

  • 1篇2017
  • 1篇2016
  • 3篇2014
  • 3篇2013
10 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
清洗设备
本发明提出了清洗设备,该清洗设备包括:转动轴、喷淋装置、毛刷、驱动器以及用于盛放清洗溶液的溶液容器。其中,喷淋装置设在转动轴上且与溶液容器连通;毛刷设在转动轴上;驱动器与转动轴相连以驱动转动轴旋转。利用该清洗设备可以有效...
顾国宝王世松杨丞杰李鸿祥付金林刘柯蔡永明宋张佐黄磊廖福余
文献传递
影响热氢化炉稳定运行时间的因素被引量:2
2013年
通过对氢化炉内加热载体的使用寿命、氢化炉铜排和电极绝缘值等影响因素的分析,提出了提高氢化炉连续稳定运行时间的解决方法。
杨丞杰张新红王世松何书玉
关键词:多晶硅
影响化学气相沉积多晶硅致密料比例的因素被引量:1
2017年
改良西门子法生产多晶硅还原工艺是高纯的三氯氢硅和氢气在还原炉内发生化学气相沉积反应,得到固态多晶硅,多晶硅根据表观质量,分为致密料、玉米料、珊瑚料。目前,国内多晶硅生产以大型还原炉为主,对成本控制具有明显优势,但存在的问题是多晶硅致密料比例较低。本文通过对还原炉反应温度控制、进料喷嘴布置、反应配比等因素的分析研究,得出了提高还原炉化学气相沉积多晶硅致密料比例的方法、思路。
王世松蔡永明蔡永明
关键词:化学气相沉积
氢化炉尾气温度控制设备
本实用新型提出了氢化炉尾气温度控制设备,该设备包括:尾气输送管以及温度监控器,尾气输送管与换热器的尾气进口相连;温度监控器设置在尾气输送管上。利用该氢化炉尾气温度控制设备可以对氢化炉尾气进行降温,同时监测尾气进入汽化器之...
赵桂洁马启坤罗平顾国宝曾亚龙杨丞杰王世松张新红李鸿祥何书玉宋东明
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一种用于氢化炉的加热装置及氢化炉
本实用新型提供一种用于氢化炉的加热装置,包括:底盘;多个加热器;多个电极,通过绝缘体贯穿底盘且多个电极沿底盘圆周方向分N环布置,多个电极被分为三组,每组中的多个电极被分为多对,每对电极的电极头部通过一个加热器相连,且每组...
赵桂洁顾国宝杨丞杰王世松何书玉李鸿祥陈忠苑付金林刘柯周文韬黄磊张新红
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清洗设备
本发明提出了清洗设备,该清洗设备包括:转动轴、喷淋装置、毛刷、驱动器以及用于盛放清洗溶液的溶液容器。其中,喷淋装置设在转动轴上且与溶液容器连通;毛刷设在转动轴上;驱动器与转动轴相连以驱动转动轴旋转。利用该清洗设备可以有效...
顾国宝王世松杨丞杰李鸿祥付金林刘柯蔡永明宋张佐黄磊廖福余
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清洗设备
本实用新型提出了清洗设备,该清洗设备包括:转动轴、喷淋装置、毛刷、驱动器以及用于盛放清洗溶液的溶液容器。其中,喷淋装置设在转动轴上且与溶液容器连通;毛刷设在转动轴上;驱动器与转动轴相连以驱动转动轴旋转。利用该清洗设备可以...
顾国宝王世松杨丞杰李鸿祥付金林刘柯蔡永明宋张佐黄磊廖福余
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一种12对棒还原炉喷嘴
本实用新型公开一种12对棒还原炉喷嘴,属硅还原领域。喷嘴结构是:喷嘴为一体包括还原炉底盘、喷头、六边型卡头、喷嘴丝口,喷嘴通过喷嘴丝口固定于还原炉底盘,喷嘴经六边型卡头旋紧。针对12对棒还原炉底部进料管分布结构,外围8个...
赵桂洁顾国宝马启坤李文光罗平王世松何书玉李鸿祥李春林马多智
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共1页<1>
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