沈阳北宇真空设备厂
- 作品数：9 被引量：8H指数：2
- 相关机构：大连理工大学大连海事大学更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：一般工业技术金属学及工艺电子电信核科学技术更多>>
- 镀膜机的微机控制
- 随着工农业的发展,计算机的普及及应用,计算机已经深入到国民经济的各个领域。镀膜机也不例外,为了保障产品的质量及生产的效率,将微机自动控制引入镀膜过程。在先进设备及工艺处理过程中,安排最佳运行方式,节约能源,保证镀膜质量。...
- 陈玲玲李国卿关秉羽汪思源
- 文献传递
- 镀膜机的微机控制被引量：5
- 2003年
- 设计了磁控溅射 多弧镀膜机的微机控制系统 ,采用PLC可编程控制器与上位机进行数据传递和控制设备的控制方式。本微机控制系统中的真空镀膜机 ,设计了 3套孪生磁控、10套多弧和 8级工艺的过程控制 ,具有自动组合工艺和自控程序升级功能 ,从而实现多种工艺的镀膜要求。
- 陈玲玲李国卿黄开玉关秉羽汪思源
- 关键词：微机控制系统PLC可编程控制器真空镀膜机
- 对靶非平衡磁控溅射系统平面探针诊断被引量：1
- 2002年
- 对靶非平衡磁控溅射系统由两个相对磁控溅射靶和一个磁镜场约束系统构成 ,通过调整电磁线圈的激励电流可以控制磁镜场的空间分布状态 ,测量了合成磁场的空间分布状态。采用平面探针方法 ,在两靶中间位置测量了收集电流密度。结果表明 ,探针的收集电流密度随磁镜场的激励电流增加显著增大 ,在偏压 15 0V、工作气体 Ar、压力 0 .2 Pa和磁控溅射靶工作电流 3A时 ,收集的电流密度可以达到 5 .77m A / cm2 。
- 牟宗信李国卿关秉羽
- 关键词：等离子体镀膜技术
- 等离子体-离子束源增强沉积设备
- 等离子体-离子束源增强沉积设备(如图1所示),是在专利ZL-92111475.3和专利ZL-92111302.1基础上设计制造的先进设备,该设备实现了金属、气体、离子束-多弧增强沉积技术和等离子体源表面强化-镀膜一体化技...
- 李国卿柳翠牟宗信关秉羽
- 文献传递
- 不锈钢的离子氮化-离子镀膜一体化
- 多弧离子镀TiN膜具有硬度高、摩擦系数小和耐腐蚀性能好等优点,在装饰、防腐和提高工件使用寿命方面都发挥着很大的作用。但直接在不锈钢基体上进行多弧离子镀TiN膜,常常会因为结合力不理想而难以用于工业化生产。为了解决这一问题...
- 苟伟李国卿关秉羽
- 关键词：等离子体源离子氮化多弧离子镀
- 文献传递
- 等离子体增强磁控溅射沉积技术(PMD)制备薄膜
- 等离子体增强磁控溅射沉积技术(PMD)是以磁控溅射为基础的新型PVD沉积技术,它将传统的磁控溅射技术与独立产生的弧光放电平面等离子体源相结合沉积硬质膜。使用的平面等离子体源是自行研制的平面等离子体源增强沉积镀膜机,通过离...
- 柳翠李国卿王力阁关秉羽
- 关键词：镀膜
- 文献传递
- 强流磁约束金属离子注入源被引量：2
- 2005年
- 设计和制造了适合工业应用的强流金属离子源。离子源的电弧阴、阳电极之间和放电室壁采用永磁体阵列形成导流、屏蔽磁场,改进了电弧的放电特性和提高等离子体密度。离子注入源在加速电压为30kV、50Hz条件时,平均束流流强约为30mA,调试结果表明附加磁场提高了离子源性能。
- 牟宗信龙振湖李国卿关秉羽
- 关键词：等离子体离子束离子源
- 脉冲磁过滤阴极弧等离子体制备四面体非晶碳膜
- 利用脉冲磁过滤阴极弧制备的非晶碳膜有许多优良的性能,如高硬度与高弹性模量、生物相容性好、高禁带宽度、高热稳定性以及良好的场致发光能力等,在诸多领域都获得广泛的应用。我们采用自行研制的脉冲磁过滤阴极弧系统,成功的在单晶硅(...
- 张成武李国卿柳翠关秉羽
- 文献传递
- Ti掺杂类金刚石碳膜的结构与性能的研究
- 类金刚石碳膜(diamond-like carbon films,简称DLC膜)是一系列含有sp、sp碳碳杂化键的非晶碳膜的总称。DLC膜具有很多类似金刚石的性质,如高硬度、低摩擦系数、高耐磨性、化学稳定性、耐蚀性、导热...
- 柳翠李国卿牟宗信张成武关秉羽
- 关键词：磁控溅射类金刚石碳膜金属掺杂
- 文献传递
