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HOYA电子马来西亚有限公司: 作品数：15 被引量：0H指数：0; 相关机构：HOYA株式会社更多>>; 相关领域：电子电信更多>>

合作机构

HOYA株式会社

发表作品
相关人物
相关机构
所获资助
研究领域

文献类型

15篇中文专利

领域

1篇电子电信

主题

13篇掩模
11篇光掩模
8篇坯料
8篇抗蚀剂
5篇涂敷
5篇显示装置
5篇光层
4篇喷嘴
4篇光学
4篇光学特性
3篇液状
2篇掩膜
2篇图案
2篇涂布
2篇涂布装置
2篇坯件
2篇转印
2篇面接触
2篇空白片
2篇光掩膜

机构

15篇HOYA电子...
15篇HOYA株式...

年份

1篇2024
1篇2023
1篇2020
2篇2019
1篇2018
1篇2016
3篇2012
3篇2009
2篇2008

共 15 条记录，以下是 1-10

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排序方式：

掩模坯件的制造方法及涂布装置: 一种掩模坯件的制造方法及涂布装置，其包括使从收容有液状抗蚀剂(21)的液槽(20)通过喷嘴(22)到达喷嘴前端开口部的抗蚀剂接触在具有用于形成转印图案的薄膜的基板的被涂布面上，通过使基板和喷嘴相对移动，在被涂布面上涂布抗...; 宫田凉司浅川敬司; 文献传递

掩模坯料的制造方法以及光掩模的制造方法: 本发明提供一种掩模坯料的制造方法以及光掩模的制造方法，其包含如下工序，即，使从收容有液状的抗蚀剂的液槽在毛细管现象的作用下通过涂敷喷嘴而到达喷嘴前端开口部的抗蚀剂与具有用于形成复制图案的薄膜的基板的被涂敷面接触，同时使基...; 宫田凉司浅川敬司; 文献传递

光掩模空白片、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法: 本发明提供一种光掩模空白片、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法，上述光掩模空白片成为图案截面的形状近似垂直而适合转印特性和微细化、且即使以高曝光量(高剂量)进行转印也可使转印缺陷少的光掩模，上述光掩模的制造方法具有上述...; 牛田正男坪井诚治安森顺一阿山兼士; 文献传递

光掩模坯料及光掩模的制造方法、显示装置的制造方法: 本发明提供一种光掩模坯料，其满足如下的光学特性，即，在通过蚀刻制作光掩模时可得到高精度的掩模图案，并且，在使用光掩模制作显示装置时能够抑制显示不均匀。光掩模坯料在制作显示装置制造用光掩模时被使用，具有：透明基板，由对于曝...; 坪井诚治中村真实; 文献传递

掩膜坯料的制造方法及光掩膜的制造方法: 本发明提供一种带有抗蚀膜的掩膜坯料的制造方法，其包括抗蚀剂涂敷，在该抗蚀剂涂敷工序中，从具有向一方向延伸的抗蚀液供给口的涂敷喷嘴喷出抗蚀液，同时沿与所述一方向交差的方向使所述涂敷喷嘴及基板的被涂敷面相对移动，在所述被涂敷...; 浅川敬司宫田凉司; 文献传递

光掩模坯料及光掩模的制造方法、显示装置的制造方法: 本发明提供一种光掩模坯料，其满足如下的光学特性，即，在通过蚀刻制作光掩模时可得到高精度的掩模图案，并且，在使用光掩模制作显示装置时能够抑制显示不均匀。光掩模坯料在制作显示装置制造用光掩模时被使用，具有：透明基板，由对于曝...; 坪井诚治中村真实

掩模坯件的制造方法及涂布装置: 一种掩模坯件的制造方法，其包括使从收容有液状抗蚀剂(21)的液槽(20)通过喷嘴(22)到达喷嘴前端开口部的抗蚀剂接触在具有用于形成转印图案的薄膜的基板的被涂布面上，通过使基板和喷嘴相对移动，在被涂布面上涂布抗蚀剂来形成...; 宫田凉司浅川敬司; 文献传递

掩模坯板的制造方法及光掩模的制造方法: 一种带有抗蚀剂膜的掩模坯板的制造方法，包括：一边从具有向一方向延伸的抗蚀剂液供给口的涂敷喷嘴中吐出抗蚀剂液、一边向与所述一方向相交叉的方向使所述涂敷喷嘴及基板的被涂敷面相对地扫描、在所述被涂敷面上涂敷所述抗蚀剂液的抗蚀剂...; 浅川敬司宫田凉司; 文献传递

光掩模坯料、光掩模坯料的制造方法、使用其的光掩模制造方法、及显示装置的制造方法: 本发明提供能够使掩模图案截面形状的垂直化的光掩模坯料及其制造方法。本发明还提供使用其的光掩模的制造方法及显示装置的制造方法。本发明的光掩模坯料具有透明基板(1)、遮光层(2)和减反射层(3)，遮光层(2)由含有铬和氮的铬...; 坪井诚治浅川敬司中村真实阿山兼士安森顺一; 文献传递

光掩模空白片、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法: 本发明提供一种光掩模空白片、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法，上述光掩模空白片成为图案截面的形状近似垂直而适合转印特性和微细化、且即使以高曝光量(高剂量)进行转印也可使转印缺陷少的光掩模，上述光掩模的制造方法具有上述...; 牛田正男坪井诚治安森顺一阿山兼士; 文献传递

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