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沈阳市北宇真空设备厂

作品数:5 被引量:20H指数:3
相关作者:关秉羽更多>>
相关机构:大连理工大学哈尔滨工业大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术理学更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇专利

领域

  • 3篇一般工业技术
  • 2篇理学

主题

  • 3篇等离子体
  • 2篇镀膜
  • 2篇膜层
  • 1篇氮化
  • 1篇氮化钛
  • 1篇等离子体制备
  • 1篇电极
  • 1篇电热
  • 1篇电热丝
  • 1篇调制作用
  • 1篇镀膜工艺
  • 1篇镀膜机
  • 1篇真空镀膜
  • 1篇真空镀膜机
  • 1篇偏压
  • 1篇无机非金属
  • 1篇无机非金属材...
  • 1篇离子镀
  • 1篇脉冲偏压
  • 1篇膜层质量

机构

  • 5篇沈阳市北宇真...
  • 3篇大连理工大学
  • 2篇哈尔滨工业大...

作者

  • 5篇关秉羽
  • 3篇李国卿
  • 2篇田修波
  • 2篇牟宗信
  • 1篇丁振峰
  • 1篇魏永强
  • 1篇巩春志
  • 1篇张家良
  • 1篇林永清
  • 1篇柳翠
  • 1篇张成武
  • 1篇杨士勤
  • 1篇邹学平

传媒

  • 2篇真空
  • 1篇核聚变与等离...
  • 1篇材料研究学报

年份

  • 2篇2008
  • 1篇2004
  • 2篇2002
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
一种等离子体蒸发镀膜机
一种等离子体蒸发镀膜机,它涉及一种真空镀膜机。针对现有蒸发镀膜机镀膜质量难以保证的问题。本实用新型的进气管(2)的一端装在镀膜真空室体(1)内,镀膜真空室体(1)侧壁上设有室门(3),泵组(4)装在镀膜真空室体(1)上,...
关秉羽田修波
文献传递
脉冲偏压对矩形平面大弧源离子镀TiN膜层性能的影响被引量:6
2008年
采用矩形平面大弧源离子镀技术在201奥氏体不锈钢基体表面制备TiN硬质薄膜,研究了脉冲偏压对TiN膜层的表面形貌、相结构、硬度和耐磨性能的影响.结果表明,随着脉冲偏压的增大,薄膜中大颗粒的数目先增加后减少,这是大颗粒受到离子拖曳力和电场力双重作用的结果.存在一个最佳的脉冲偏压,使得制备出的TiN膜层具有较高的I_(111)/I_(200)比例和较高的耐磨性.脉冲偏压为-300 V时制备的TiN膜层具有最好的综合性能.
林永清巩春志魏永强田修波杨士勤关秉羽于传跃
关键词:无机非金属材料离子镀脉冲偏压氮化钛耐磨性
脉冲磁过滤阴极弧等离子体制备四面体非晶碳膜被引量:1
2004年
介绍了脉冲磁过滤阴极电弧法制备四面体非晶碳膜 (tetrahedral am orphous carbon即 ta- C) ,并对制得的薄膜表面形貌、硬度、电阻等进行了测试。结果表明 ,脉冲磁过滤阴极电弧法制备的 ta- C膜有优良的性能。拉曼光谱分析显示 ,制得的薄膜为非晶结构 ,有明显的 sp3结构特征 ,符合 ta-
张成武李国卿柳翠关秉羽
关键词:拉曼光谱偏压类金刚石膜
非平衡磁控溅射中调制磁场的作用被引量:9
2002年
研究了调制磁场对于非平衡磁控溅射系统的作用 ,调制磁场可以使非平衡磁控溅射形成具有较高等离子体密度的等离子体束流 ,延伸到靶前 110 m m以上。在靶前 6 0~ 110 mm的位置上 ,收集电流密度高达 9~ 10 m A/ cm2 ,收集的电流密度比常规的磁控溅射方法高 9倍以上 ,在调制磁场作用下磁控溅射沉积铜薄膜的沉积速率可以增加到 14倍。
牟宗信关秉羽李国卿宋林峰
关键词:非平衡磁控溅射等离子体镀膜工艺调制作用
脉冲磁过滤阴极弧沉积中基片台悬浮电位研究被引量:4
2002年
通过测量脉冲磁过滤阴极弧等离子体沉积系统中的基片台悬浮电位,发现了弧源接地方式对基片台悬浮电位与等离子体电位影响很大。当阳极接地时基片台悬浮电位可达-60V,而弧源悬浮时却只有-5V。因此,要获得相似沉积条件的沉积薄膜,弧源接地方式不同,给基片施加偏压也应有所不同。
邹学平李国卿丁振峰张家良牟宗信关秉羽
共1页<1>
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