国家高技术研究发展计划(2003AA311122)
- 作品数：6 被引量：10H指数：2
- 相关作者：陈弟虎朱道云何振辉郑昌喜王明东更多>>
- 相关机构：中山大学广东工业大学深圳大学更多>>
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- 相关领域：一般工业技术理学更多>>
- 脉冲偏压作用下MgO薄膜表面的荷电效应被引量：1
- 2012年
- 采用脉冲偏压电弧离子沉积技术在玻璃基片上制备了透明的、具有择优取向的MgO薄膜。针对绝缘性薄膜表面的荷电效应,比较了脉冲偏压作用下鞘层对离子的加速时间（即鞘层的寿命）与脉冲宽度的大小以及偏压鞘层的初始厚度与离子穿越的距离的大小,讨论了不同占空比下偏压鞘层对离子的加速效应。利用X射线衍射及扫描电子显微镜对样品的观察结果表明,由于荷电效应,脉冲偏压幅值为-150 V,占空比在10%~40%的范围内,占空比的变化并不能改变MgO薄膜的微观结构和表面形貌。
- 朱道云郑昌喜王明东陈弟虎何振辉闻立时
- 关键词：脉冲偏压荷电效应
- 退火对电弧离子镀制备的ZnO薄膜的影响
- 2008年
- 采用阴极电弧离子镀在Si、Al2O3以及玻璃衬底上制备出具有择优取向的ZnO薄膜,并对其进行退火处理。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、光致发光光谱(PL)、紫外-可见光光谱仪对ZnO薄膜的结构、表面形貌和光学性能进行分析。XRD结果表明,所制备的ZnO薄膜具有很好的ZnO(002)择优取向,退火使ZnO(002)衍射峰向高角度方向偏移。SEM结果表明,随着退火温度升高,表面晶粒由隆起的山脉或塔状变为平面状,晶粒002面呈六边状。PL谱结果表明,随着退火温度的升高,紫外发光峰强度逐渐增强,可见光发光峰强度逐渐相对减弱。紫外可见光透过谱结果表明,退火使可见光透过率增高,光学带隙发生红移。
- 王明东郑婷朱道云何振辉陈弟虎闻立时
- 关键词：ZNO薄膜退火
- 沉积气压对电弧离子镀制备ZnO薄膜的结构和性能影响被引量：5
- 2007年
- 采用阴极真空电弧离子镀技术在玻璃衬底上制备出了具有择优取向的透明ZnO薄膜。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜及紫外一可见吸收光谱仪分别对ZnO薄膜的结构、表面形貌及可见光透过率进行了分析。XRD结果表明，所制备的ZnO薄膜具有六角纤锌矿结构的（002）和（101）两种取向，在沉积气压〉1．0Pa时所制备的ZnO薄膜具有（002）择优取向，并且非常稳定。SEM图表明，ZnO晶粒大小较为均匀，晶粒尺寸随着气压升高而变小。在400～1000nm范围内，ZnO薄膜的可见光透过率超过80％，吸收边在370nm附近，所对应的光学带隙约为3．33～3．40eV，并随着沉积气压上升而变大。
- 王明东朱道云郑昌喜何振辉陈弟虎闻立时
- 关键词：真空电弧离子镀X射线衍射ZNO薄膜
- 阴极真空电弧沉积MgO薄膜的椭偏光谱研究被引量：1
- 2007年
- 采用阴极真空电弧离子沉积技术在硅基片上制备出了MgO薄膜。利用椭圆偏振光谱、原子力显微镜及扫描电子显微镜分别对不同氧流量下制备的MgO薄膜的厚度,光学常数,表面粗糙度及表面形貌进行了分析,并对椭圆偏振光谱的光学粗糙度结果和原子力显微镜的均方根粗糙度结果进行了对比和分析。结果表明,不同氧流量下制备出的MgO薄膜,表面粗糙度及薄膜颗粒随着氧流量的增加而增大。椭偏光谱与AFM得到的表面粗糙度存在线性一致关系,表明椭偏光谱可作为一种很好的无损分析手段。
- 刘毅林晓东朱道云陈弟虎何振辉
- 关键词：椭圆偏振光谱表面粗糙度
- 脉冲偏压占空比对MgO薄膜成分及结构的影响被引量：1
- 2007年
- 采用阴极真空电弧离子沉积技术在玻璃衬底上制备出了具有择优取向的透明MgO薄膜．利用卢瑟福背散射谱、X射线衍射仪、扫描电子显微镜及紫外-可见吸收光谱仪分别对MgO薄膜的成分、结构、表面形貌及可见光透过率进行了分析．结果表明：MgO薄膜具有（100）和（110）两种取向，且择优取向趋势不随占空比的变化而变化．随着占空比的增大，脉冲偏压为-150V时制备的MgO薄膜中Mg和O的原子含量之比逐渐增大，占空比为30％时，n（Mg）：n（O）接近1：1；SEM图表明，晶粒尺寸随着占空比的增大几乎没有发生明显的改变；在350～900nm范围内，MgO薄膜的可见光透过率可以达到90％以上．
- 朱道云郑昌喜陈弟虎何振辉
- 关键词：占空比
- 沉积气压对电弧离子镀制备MgO薄膜的结构及性能的影响被引量：2
- 2011年
- 采用阴极真空电弧离子沉积技术在玻璃及Si衬底上成功地制备了具有择优结晶取向的透明MgO薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)及紫外-可见吸收光谱仪分别对MgO薄膜微观结构、表面形貌及可见光透过率进行了测试与分析。XRD结果表明,所制备的MgO薄膜具有NaCl型立方结构的(100)、(110)和(111)3种结晶取向,在沉积气压为0.7～3.0Pa的范围内,薄膜的择优结晶取向随沉积气压的升高先由(100)转变为(110),最后变为(111)。SEM图表明随着沉积气压的升高,MgO薄膜的晶粒逐渐变小,薄膜结晶质量变差。在380～900nm范围内,沉积气压为0.7Pa下制备的MgO薄膜其可见光透过率高于90%,随着沉积气压的升高,薄膜的可见光透过率有所下降。
- 朱道云郑昌喜王明东陈弟虎何振辉
- 关键词：等离子体显示板
