您的位置: 专家智库 > >

国家高技术研究发展计划(AA8420522002)

作品数:2 被引量:3H指数:1
相关作者:吴广明王珏杜梅芳沈军姚兰芳更多>>
相关机构:同济大学上海理工大学更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划上海市科委中法合作项目更多>>
相关领域:理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇会议论文

领域

  • 4篇一般工业技术
  • 2篇理学

主题

  • 4篇纳米
  • 2篇氧化硅
  • 2篇制备及性能
  • 2篇溶胶
  • 2篇溶胶-凝胶
  • 2篇疏水
  • 2篇疏水型
  • 2篇纳米SIO2
  • 2篇纳米介孔
  • 2篇介孔
  • 2篇介孔薄膜
  • 2篇活性剂
  • 2篇甲基三乙氧基...
  • 2篇硅烷
  • 2篇二氧化硅
  • 2篇SIO2
  • 2篇表面活性
  • 2篇表面活性剂

机构

  • 4篇上海理工大学
  • 4篇同济大学

作者

  • 4篇姚兰芳
  • 3篇杜梅芳
  • 2篇曲典
  • 2篇沈军
  • 2篇王珏
  • 2篇吴广明
  • 1篇吴兆丰

传媒

  • 2篇功能材料
  • 2篇第五届中国功...

年份

  • 4篇2004
2 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
疏水型纳米SiO2-MTES复合薄膜的制备及性能
采用溶胶-凝胶技术,通过酸/酸二步法控制实验条件,由于表面活性剂具有特殊的表面活性性能,实验中采用表面活性剂十六烷基三甲基溴化氨(CTAB)为模板剂,正硅酸乙酯为硅源,甲基三乙氧基硅烷为有机硅烷,以及二次去离子水,盐酸为...
姚兰芳曲典杜梅芳吴广明沈军王珏
关键词:溶胶-凝胶疏水甲基三乙氧基硅烷
文献传递
表面活性剂浓度对纳米介孔SiO2薄膜结构的影响
利用溶胶-凝胶技术,在酸性条件下,采用十六烷基三甲基溴化氨(CTAB)为表面活性剂,正硅酸乙酯为硅源,以及二次去离子水,盐酸为催化荆等原料制备前驱体溶胶.利用表面活性剂与硅源水解后形成的聚集体相互作用,在溶液中形成分子自...
姚兰芳杜梅芳吴兆丰吴广明沈军王珏
关键词:介孔薄膜二氧化硅表面活性剂
文献传递
表面活性剂浓度对纳米介孔SiO2薄膜结构的影响被引量:2
2004年
利用溶胶-凝胶技术,在酸性条件下,采用十六烷基三甲基溴化氨(CTAB)为表面活性剂,正硅酸乙酯为硅源,以及二次去离子水,盐酸为催化剂等原料制备前驱体溶胶.利用表面活性剂与硅源水解后形成的聚集体相互作用,在溶液中形成分子自组装体,通过简单提拉迅速蒸发溶剂等方法制备二氧化硅-表面活性剂纳米介孔薄膜.分析了表面活性剂浓度对薄膜相结构的影响,发现表面活性剂浓度的变化,对薄膜的微结构和性能都有影响,通过调节表面活性剂的浓度可以对该纳米薄膜的微观结构和性能等进行控制,对样品进行了红外光谱,X射线衍射结构分析,原子力显微镜观察表面形貌.
姚兰芳杜梅芳吴兆丰吴广明沈军王珏
关键词:介孔薄膜二氧化硅表面活性剂
疏水型纳米SiO2-MTES复合薄膜的制备及性能被引量:1
2004年
采用溶胶-凝胶技术,通过酸/酸二步法控制实验条件,由于表面活性剂具有特殊的表面活性性能,实验中采用表面活性剂十六烷基三甲基溴化氨(CTAB)为模板剂,正硅酸乙酯为硅源,甲基三乙氧基硅烷为有机硅烷,以及二次去离子水,盐酸为催化剂等原料制备SiO2-MTES(摩尔比1:1.15)前驱体溶胶.通过简单提拉迅速蒸发溶剂等方法制备二氧化硅-甲基三乙氧基硅烷的有机-无机复合薄膜,测得的红外透射光谱表明所制备的薄膜由于掺入甲基基团而疏水,接触角测试值约125度,其结果进一步支持这一结论.未加MTES的薄膜折射率为1.18,膜厚305nm.加入MTES后薄膜折射率为1.22,膜厚为289.6nm.透射光谱和机械性能测试结果表明所制备的疏水型纳米SiO2-MTES复合薄膜同时还具有良好的光学性能和机械性能.
姚兰芳曲典杜梅芳吴广明沈军王珏
关键词:溶胶-凝胶疏水甲基三乙氧基硅烷
共1页<1>
聚类工具0