山西省回国留学人员科研经费资助项目(2008-37)
- 作品数:14 被引量:44H指数:4
- 相关作者:赵君芙梁建马淑芳许并社黄平更多>>
- 相关机构:太原理工大学更多>>
- 发文基金:山西省回国留学人员科研经费资助项目山西省自然科学基金山西省高等学校科技开发基金更多>>
- 相关领域:一般工业技术化学工程理学电子电信更多>>
- CdSe薄膜的制备及性能表征被引量:18
- 2011年
- 室温下,以CdSO4、H2SeO3和Na2SO4为原料,采用二电极体系,利用电化学法在ITO玻璃基底上沉积了CdSe薄膜。采用高分辨X射线衍射仪(HRXRD)、场发射扫描电镜(FESEM)、原子力显微镜(AFM)、紫外-可见-近红外(UV-VIS-NIR)分光光度计、荧光分光光度计(PL)对不同沉积电压下所制备的薄膜的晶体结构、形貌及光学性能进行分析表征。结果表明:所制备的薄膜为立方相CdSe,呈纳米颗粒状,部分粒子表现出不均匀团聚。紫外吸收光谱的吸收峰较体相CdSe有较大的蓝移,且导致禁带宽度发生改变,表现出量子尺寸效应。样品发射光谱表现出荧光现象,且单色性好。适当的沉积电压对CdSe薄膜的形貌和质量起关键作用,同时讨论了其反应机理。
- 黄平李婧梁建赵君芙马淑芳许并社
- 关键词:电化学沉积CDSE薄膜禁带宽度沉积电压
- InAs纳米颗粒的制备及性能表征被引量:2
- 2010年
- 以InCl3.4H2O、KBH4、As2O3和三乙醇胺为原料,采用溶剂热-退火法制备出了InAs纳米颗粒。用XRD、TEM和拉曼光谱仪对产物的微观结构进行表征。研究了反应物的配比和退火温度对产物的物相和形貌的影响,得到制备InAs纳米颗粒的最佳工艺参数为:反应物As2O3、InCl3.4H2O的物质的量配比为1:1,反应与退火温度分别为160℃和500℃。并对产物的形成过程进行了初步探讨。
- 梁建王玉赵君芙马淑芳
- 关键词:三乙醇胺
- 复合脉冲电沉积制备GaAs薄膜
- 复合脉冲电镀沉积法是近年来新兴的复合材料电沉积技术。本研究以Ga与As2O3为镓源与砷源,铂片为对电极,饱和甘汞电极为参比电极,采用复合脉冲电沉积法在SnO2导电玻璃衬底上制备得到GaAs薄膜。利用高分辨X射线衍射仪(H...
- 刘晶章海霞赵君芙马淑芳梁建许并社
- 关键词:电沉积砷化镓
- 文献传递
- 不同掺杂元素对GaN薄膜影响的研究进展
- GaN是一种宽带隙直接跃迁半导体,具有高热导率,高的热稳定性,高的击穿电压,介电常数小,发光效率高等优势,因此,近年来GaN薄膜的发展非常迅速,GaN在半导体领域有着重要地位,而高质量GaN薄膜的掺杂制备一直是研究者关注...
- 尚林赵君芙张华梁建许并社
- 关键词:GAN薄膜掺杂发光性能
- 文献传递
- 白光LED用红色荧光粉制备与性能的研究进展
- 荧光粉作为白光LED的配套材料,其性能优劣直接影响到白光LED的发光效率、亮度以及显色性等。目前白光LED显色指数偏低,色温偏冷主要是由于荧光粉中缺少红光成分。Eu3+、Sm3+是最常用的红色荧光粉的发光中心,传统红色荧...
- 郭颂刘红利赵君芙张华梁建许并社
- 关键词:白光LED红色荧光粉共掺杂
- 文献传递
- 不同金属催化剂对GaN形貌及其性能影响的研究进展
- GaN纳米材料在蓝光发光二极管等方面显示出了极大的发展潜力,因此低成本、高性能的GaN纳米材料的制备已成为科学研究者倍受关注的热点之一。众多研究发现在制备过程中,采用不同催化剂对生成GaN的形貌及其性能有着显著的影响,筛...
- 朱琳赵君芙张华梁建许并社
- 关键词:金属催化剂GAN纳米材料
- 文献传递
- 阳极氧化铝模板的制备及其在纳米材料领域的应用进展被引量:4
- 2010年
- 概括了传统阳极氧化铝(AAO)模板及几种新型AAO模板的制备工艺,并总结了AAO模板在纳米材料领域的应用进展。
- 李婧梁建赵君芙黄平李慧
- 关键词:阳极氧化铝模板阳极氧化有序度纳米材料
- Zn掺杂之字形GaN纳米管的制备及性能表征
- 分别以氧化镓、氧化锌和氨气作为镓源、锌源和氮源,通过化学气相沉积法在喷金的Si(100)衬底上生长Zn掺杂之字形GaN纳米管。以场发射扫描电镜(FESEM)、X-射线衍射仪(XRD)、光致发光仪(PL)等测试方法对其成分...
- 王晓宁梁建赵君芙张华马淑芳许并社
- 关键词:氮化镓纳米管
- 文献传递
- 水热法合成氧化锌纳米棒及其表面改性的研究
- 以ITO导电玻璃作为衬底,采用水热法制备出了氧化锌纳米棒阵列,研究了反应温度、反应时间及反应物浓度等实验条件对其微观结构与表面形貌的影响。利用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对样品进行了分析测试,结果表明:...
- 安峰贾伟赵君芙张华梁建许并社
- 关键词:水热法氧化锌纳米棒阵列
- 文献传递
- GaN薄膜制备技术的研究进展被引量:2
- 2010年
- 综述了近年来国内外GaN薄膜制备技术的研究进展,并重点介绍了其发展历程、所使用的设备和技术、各自的优缺点及应用前景。通过比较这些技术的优缺点展望了制备GaN薄膜技术的发展前景。
- 赵丹梁建赵君芙马淑芳张华许并社
- 关键词:GAN薄膜