吉林省科技发展计划基金(20100111)
- 作品数：1 被引量：1H指数：1
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- H_2对类金刚石薄膜性能影响的研究被引量：1
- 2013年
- 类金刚石膜因其高的硬度、高的介电性、低的摩擦系数、优异的光学和化学性能以及巨大的潜在应用前景而成为研究热点。采用离子增加化学气相沉积方法在Si基底表面制备含氢类金刚石薄膜,通过XPS能谱测试,确定膜层的成份组成,膜层中除了含有碳以外还含少量的吸附的氧。调节反应源气体中H2的比例,结果表明H2的含量直接影响DLC薄膜的性能。随着H2的含量增大,膜层的表面粗糙度降低,膜层的硬度变大,而应力相应增大。这是由于反应源气体中H2含量的增加,DLC薄膜中氢的含量反而降低,膜层内sp2团簇结构的无序性增加,sp3键的比例增加,这将使得膜层内的碳的空间网络结构所占的比例增加。
- 唐吉龙付新华
- 关键词：类金刚石膜应力等离子增强化学气相沉积
