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浙江省科技厅项目(2008C31013)
作品数:
1
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相关作者:
赵永峰
郑建龙
蔡南科
蒋洪奎
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相关机构:
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相关领域:
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蒋洪奎
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郑建龙
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赵永峰
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2009
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纳米多孔硅的场致电子发射性能研究
2009年
对采用阳极氧化法及阴极还原表面处理技术制备的性能稳定的纳米多孔硅,用原子力显微镜(AFM)表征了其微观结构,多孔硅颗粒粒径在30 nm左右。室温条件下测试了多孔硅场电子发射的特性,结果表明,多孔硅具有很好的场致发光性能,在5 V/μm的电场下就可以产生场发射电流。多孔硅的开启电压在1 000 V左右,发射电流随着电压的增大而不断增大,发射电压在2 000 V以上。
蒋洪奎
赵永峰
童国平
蔡南科
郑建龙
虞献文
关键词:
多孔硅
阳极氧化法
场电子发射
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