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国家自然科学基金(50471091)

作品数:4 被引量:18H指数:3
相关作者:高克玮杨会生王燕斌罗飞庞晓露更多>>
相关机构:北京科技大学北京有色金属研究总院更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 3篇理学
  • 2篇一般工业技术

主题

  • 3篇溅射
  • 3篇磁控
  • 3篇磁控溅射
  • 2篇耐磨
  • 1篇氧化铬
  • 1篇原子力显微镜
  • 1篇射频功率
  • 1篇力学性能
  • 1篇摩擦学
  • 1篇耐磨损
  • 1篇耐磨损性
  • 1篇耐磨损性能
  • 1篇耐磨性
  • 1篇结合力
  • 1篇界面微观结构
  • 1篇溅射制备
  • 1篇非晶
  • 1篇非晶结构
  • 1篇高分辨电镜
  • 1篇TIALN薄...

机构

  • 4篇北京科技大学
  • 1篇北京有色金属...

作者

  • 4篇王燕斌
  • 4篇杨会生
  • 4篇高克玮
  • 3篇罗飞
  • 3篇庞晓露
  • 1篇古宏伟
  • 1篇李弢
  • 1篇何欣

传媒

  • 1篇真空
  • 1篇材料工程
  • 1篇航空材料学报
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2008
  • 3篇2007
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
氧化铬薄膜的界面高分辨研究被引量:3
2008年
氧化铬薄膜具有高的硬度,很好的耐磨、耐蚀性能,因而具有广泛的应用。但是到目前为止还没有看到对其微观结构研究的报道。本文通过扫描电镜、高分辨电镜及原子力显微镜研究了氧化铬薄膜及界面的微观结构。研究发现,在铬过渡层和基体的界面及氧化铬薄膜与铬过渡层间观察到约100 nm厚的非晶态铬和氧化铬,在铬过渡层和基体的界面中存在有Fe—Cr中间相。非晶层的出现为制备涂层表面光滑、晶粒细小、内应力降低、且具有较高厚度的薄膜提供了一个全新的思路。
庞晓露高克玮杨会生王燕斌
关键词:界面微观结构非晶结构高分辨电镜原子力显微镜
射频功率对氧化铬薄膜的力学性能和耐磨损性能的影响被引量:1
2007年
利用射频反应磁控溅射法在45钢基体上制备了氧化铬薄膜。采用XRD测试了薄膜的晶体结构,用Tribo-Inden-tor纳米力学测试系统得到了薄膜的硬度及微观形貌,在UMT显微力学测试仪上测试了薄膜的耐磨损性能,在此基础上讨论了铬靶溅射功率对薄膜的力学性能和耐磨损性能的影响。结果表明:在射频功率较低的情况下薄膜为Cr2O3结构。随着射频功率的提高,薄膜表面的大颗粒物质增多,硬度下降。射频功率增大时,磨损体积增加,薄膜的耐磨损性能下降。
罗飞庞晓露高克玮杨会生王燕斌
关键词:磁控溅射耐磨损性能
热处理对磁控溅射制备氧化铬涂层的结构及力学性能的影响被引量:5
2007年
本文采用射频反应磁控溅射技术制备氧化铬涂层并在不同温度及不同的保温时间内进行热处理,通过X射线衍射、纳米压痕、摩擦磨损测试仪等研究温度及保温时间对涂层结构、表面形貌、硬度、弹性模量、耐磨性及涂层与基体间的结合力进行研究。研究表明低于其晶化温度(400℃)进行退火对其结构影响不大,其力学性能没有明显提高,而在高于其晶化温度(500℃)进行退火,其结构变化比较明显,同时其力学性能显著提高,其硬度从初始态的12.3 GPa提高到26 GPa,相同试验条件下的磨损量也显著降低,从初始态的1.1×10-3 mm3降低到1×10-5 mm3。涂层与基体之间的结合力随着退火温度的提高、保温时间的延长有明显的改善。保温时间对其结构影响不大,但对其表面形貌有一定的影响,在低于晶化温度延长保温时间表面平均粗糙度降低,而高于晶化温度延长保温时间表面平均粗糙度增加。
庞晓露罗飞高克玮杨会生王燕斌李弢古宏伟
关键词:磁控溅射氧化铬耐磨性结合力
溅射工艺对TiAlN薄膜摩擦学性能的影响被引量:11
2007年
研究利用反应磁控溅射法在高速钢基体上制备TiAlN薄膜材料,采用XRD测试薄膜晶体结构,用UMT显微力学测试仪测试薄膜摩擦系数。在此基础上讨论铝含量、直流偏压及后期处理对薄膜摩擦系数的影响。结果表明,不同铝含量的TiAlN薄膜中都存在面心立方相和六方相,随着铝含量的增高,面心立方相比例逐渐减小,六方相增多。铝的引入使膜层的硬度明显提高。随着Al含量增加,GCr15与TiAlN膜层之间的摩擦系数下降。另外,直流偏压和后期处理亦可显著改善薄膜的抗摩擦性能。
罗飞何欣杨会生高克玮王燕斌
关键词:磁控溅射TIALN薄膜
共1页<1>
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