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国家科技重大专项(2011ZX02703-04)

作品数：1 被引量：0H指数：0
相关作者：孟庆伟付爽胡龙龙范仲勇丁士进更多>>
相关机构：复旦大学更多>>
发文基金：国家重点基础研究发展计划国家科技重大专项更多>>
相关领域：一般工业技术电气工程更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇低介电常数
  • 1篇紫外
  • 1篇紫外辐照
  • 1篇力学性能
  • 1篇介电
  • 1篇介电常数
  • 1篇辐照
  • 1篇超低介电常数
  • 1篇力学性

机构

  • 1篇复旦大学

作者

  • 1篇丁士进
  • 1篇范仲勇
  • 1篇胡龙龙
  • 1篇付爽
  • 1篇孟庆伟

传媒

  • 1篇功能材料

年份

  • 1篇2011
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
紫外辐照对超低介电常数SiCOH薄膜组成与机械性能的影响
2011年
采用紫外光辐照超低介电常数多孔SiCOH薄膜,研究不同照射时间对薄膜结构和性能的影响。采用动态纳米压入技术测量薄膜的力学性能,发现随照射时间增加,薄膜的模量(Er)和硬度(H)不断提高。当辐照时间增至6h时,薄膜力学强度分别达到Er约7.4GPa,H约1.0GPa。傅里叶变换红外光谱(FT-IR)、X射线光电子能谱(XPS)分析表明紫外辐照处理能够使薄膜样品中发生键的断裂与重新结合,从而改变了薄膜骨架的交联密度和刚性,进而提高力学性能。但介电性能并未受到明显影响,紫外辐照6h后,k值仅从2.0增至2.2。
付爽胡龙龙孟庆伟丁士进范仲勇
关键词：紫外辐照力学性能低介电常数
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