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激光能量对脉冲激光沉积法制备ZnO薄膜性能的影响被引量：3: 2009年; 脉冲激光沉积技术(PLD)易于获得高质量的氧化物薄膜已成为一种重要的制备ZnO薄膜的技术。采用脉冲激光沉积(PLD)(KrF准分子激光器:波长248nm,频率5Hz,脉冲宽度20ns)方法在氧气气氛中以高纯Zn(99.999%)为靶材、在单晶硅和石英衬底表面成功生长了ZnO薄膜。通过X射线衍射仪、表面轮廓仪、荧光光谱仪、紫外可见分光光度计对合成薄膜材料的晶体结构、厚度、光学性质等进行了研究,分析了激光能量变化对其性能的影响。实验结果表明我们使用PLD法可以制备出(002)结晶取向和透过率高于75%的ZnO薄膜,激光能量为450mJ的ZnO薄膜的发射性能较好,但激光能量的增加不能改善薄膜的透光率。; 贾芳曹培江曾玉祥; 关键词：ZNO薄膜激光能量脉冲激光沉积

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圳市南山区科技研发资金资助项目(2008012)