国家高技术研究发展计划(2007AA03Z332)
- 作品数：3 被引量：6H指数：2
- 相关作者：张为国杜春雷董小春吴时彬邓启凌更多>>
- 相关机构：中国科学院中国科学院研究生院更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学机械工程更多>>
- 微透镜列阵成像光刻调焦方法被引量：2
- 2010年
- 本文分析了离焦量对微透镜列阵成像光刻图形质量的影响,给出了系统离焦量的容差。同时提出了一种结构简单、可应用于微透镜列阵成像光刻系统调焦的新方法。并将基于该调焦方法的实验装置应用于微透镜列阵成像光刻系统,进行了光刻实验。实验表明,利用该方法对微透镜列阵成像光刻系统调焦,可得到接近微透镜列阵极限像质的光刻图形。
- 张为国董小春杜春雷
- 关键词：微透镜列阵
- 微透镜列阵衍射效应所致的串扰被引量：1
- 2010年
- 本文分析了微透镜列阵衍射效应的影响因素,推导出了微透镜焦平面上光强分布的解析表达式,对菲涅尔数评价衍射效应的物理含义给予了合理的解释。并利用ZEMAX软件对微透镜列阵进行仿真,基于惠更斯子波直接积分的算法计算得到了微透镜列阵焦平面上的光场强度分布。通过比较不同条件下所得到的计算结果,验证了以菲涅尔数作为微透镜列阵衍射效应评价依据的的合理性,同时验证了以菲涅尔数判断焦斑间串扰的可行性。
- 张为国董小春高洪涛邓启凌吴时彬杜春雷
- 关键词：微透镜列阵衍射效应焦斑串扰
- 微透镜列阵成像光刻技术被引量：3
- 2010年
- 介绍了一种利用微透镜列阵投影成像光刻的周期微纳结构加工方法。该方法采用商业打印机在透明薄膜上打印的毫米至厘米尺寸图形为掩模,以光刻胶作为记录介质,以微透镜列阵为投影物镜将掩模缩小数千倍成像在光刻胶上,曝光显影后便可制备出微米、亚微米特征尺寸的周期结构列阵。基于该方法建立了微透镜列阵成像光刻系统,并以制备800nm线宽、50mm×50mm面积的图形列阵为例,实现了目标图形的光刻成形,曝光时间仅为几十秒,图形边沿粗糙度低于100nm。该方法系统结构简单、掩模制备简易、曝光时间短;为周期微纳结构的低成本、高效率制备提供了有效途径。
- 张为国董小春杜春雷
- 关键词：微透镜列阵
