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国家自然科学基金(50905130)

作品数:1 被引量:4H指数:1
相关作者:付德君田灿鑫杨种田杨兵刘传胜更多>>
相关机构:武汉大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家科技重大专项更多>>
相关领域:金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇金属学及工艺

主题

  • 2篇多弧离子镀
  • 2篇离子镀
  • 1篇涂层
  • 1篇中频磁控溅射
  • 1篇显微硬度
  • 1篇力学性能
  • 1篇纳米复合涂层
  • 1篇SI
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇力学性
  • 1篇TI-SI-...

机构

  • 2篇武汉大学

作者

  • 1篇刘传胜
  • 1篇杨兵
  • 1篇杨种田
  • 1篇田灿鑫
  • 1篇闫少健
  • 1篇付酮程
  • 1篇付德君

传媒

  • 1篇粉末冶金材料...

年份

  • 1篇2012
  • 1篇2010
1 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
CrTiAlN及CrTiAlN:Si纳米多层复合涂层的制备及力学性能研究
以金属Cr和AlTi合金为靶材料,在沉积过程中引入SiH气体,用自行设计的多靶阴极电弧离子镀系统在单晶硅和硬质合金衬底上沉积了CrTiAlN和CrTiAlSiN硬质涂层,用X射线衍射、透射电镜等方法研究了衬底偏压、N气分...
付酮程闫少健田灿鑫杨兵付德君
关键词:多弧离子镀显微硬度
文献传递
多弧-磁控溅射法制备Ti-Si-N纳米复合涂层及涂层的结构和力学性能被引量:4
2010年
用内外靶配置的多弧-磁控溅射技术在单晶硅和硬质合金上制备Ti-Si-N纳米复合涂层,研究衬底偏压和Si靶溅射电流对涂层结构和力学性能的影响,经过实验参数优化,在偏压为-150 V、Si靶电流为15 A的沉积条件下,得到Si的原子分数为6.3%的Ti-Si-N纳米复合涂层。X射线衍射、X射线光电子能谱和透射电镜分析表明,涂层中含有晶态TiN和非晶Si3N4,纳米尺寸的TiN颗粒镶嵌在非晶Si3N4基体结构中。纳米硬度计测试表明涂层的显微硬度为40 GPa,摩擦学实验表明其摩擦因数为0.89,可满足Ti-Si-N纳米复合涂层的工业化应用要求。
刘传胜杨种田杨兵田灿鑫付德君
关键词:多弧离子镀中频磁控溅射TI-SI-N纳米复合涂层
共1页<1>
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