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离子束轰击改性对基底表面织构形成规律的影响研究被引量：2: 2015年; 利用氩离子束对硅基底表面进行轰击,形成了不同规则的纳米织构,对不同织构的变化规律进行系统的研究,采用原子力显微镜分析表面形貌。结果表明,随着氩离子垂直轰击基底表面的时间从0增加到15 min,表面粗糙度由0.205增大到0.490 nm,且当垂直轰击基底15 min时,表面呈现出纳米点阵织构;当氩离子与基底呈一定夹角轰击时,基底表面呈现波纹纳米织构,且随着轰击角度的增加,表面逐渐变得粗糙。当离子束轰击时间继续增加时,基底表面织构基本维持不变。研究结果为进一步探索离子束表面改性技术对不同基底表面形貌产生的影响、提高沉积薄膜附着力、以及离子束刻蚀等工作提供了理论参考。; 安书董王晓燕陈仙王炎武赵玉清; 关键词：表面形貌表面粗糙度

磁过滤器电流对非晶碳薄膜摩擦学特性影响的研究被引量：3: 2011年; 研究了过滤阴极真空电弧技术中,不同的磁过滤器电流下(5—13A),制备的四面体非晶碳(ta-C)薄膜对摩擦学特性的影响.通过对薄膜厚度,薄膜结构以及薄膜表面粗糙度随磁过滤电流的变化结果进行了测试,结果表明,随着磁过滤器电流的增大,薄膜的sp3键含量逐渐减少,表面粗糙度从0.13增大到0.38.磁过滤器电流在5A时,薄膜的摩擦系数最小约为0.08,当电流增大到7A时,摩擦系数显著增大,磁过滤器电流从7A增大到13A时,薄膜的摩擦系数再次减小约为0.1.; 韩亮杨立杨拉毛草王炎武赵玉清; 关键词：四面体非晶碳

基于LabVIEW的碳基薄膜制备自动控制系统开发研究被引量：2: 2015年; 基于Lab VIEW图形化编程软件和PCI1711多功能卡,设计开发了用于真空等离子镀膜机的自动控制系统,实现了对四面体非晶碳薄膜制备工艺的自动控制。该系统共分为5个模块:镀膜机各设备的电源控制(70路)、模/数转换(32路)、数模转换(32路)、PWM输出(6路)、机间通信(采用RS 485总线)。对电源的控制通过电磁继电器实现;数/模转换通过开关量输出接口控制D/A转换器予以实现;模数转换通过多路模拟开关芯片进行选通后送到数据采集卡的模拟量输入端予以实现;通过RS 485总线实现对复合真空计、涡轮分子泵、气体质量流量计等的控制与数据获取。实验表明,该控制系统具有对真空度、离子束表面改性、真空磁过滤多弧镀膜的实时监测与控制功能,实现了薄膜制备的计算机控制。; 安书董毕鹏赵海天赵玉清

基底表面纳米织构对非晶四面体碳膜结构和摩擦特性的影响研究被引量：2: 2015年; 本文利用离子束表面改性技术对基底表面进行不同时间的轰击,形成不同规则的纳米织构,对不同织构的变化规律进行了研究,同时,利用磁过滤真空阴极电弧技术,在具有不同纳米织构的各基底上沉积相同时间的四面体非晶碳薄膜.采用原子力显微镜对各基底的织构进行形貌分析,结果表明,高能粒子束的轰击对基底表面形貌有较大的影响,根据离子束轰击时间的不同,可以在基底表面形成各种不同规则的纳米织构,轰击15 min后发现基底表面形成点阵纳米织构,之后随着时间的增加,基本维持点阵结构.通过X射线光电子能谱仪和摩擦磨损试验仪对沉积在具有不同织构的基底上的ta-C薄膜进行测试,研究表明,基底表面纳米织构的非晶层结构引起薄膜内部sp3键的含量降低,释放了薄膜的内应力,同时发现基底表面纳米织构将ta-C薄膜磨损时间从不足10 min提高到约70 min,有效提高了薄膜的耐磨性.; 安书董王晓燕陈仙王炎武王晓波赵玉清; 关键词：四面体非晶碳表面织构 X射线光电子能谱

高能氮离子轰击对四面体非晶碳膜的表面改性和摩擦系数影响的研究被引量：1: 2011年; 利用过滤阴极真空电弧技术制备了sp3键含量不小于80%的四面体非晶碳(ta-C)膜.利用冷阴极潘宁离子源产生不同能量的氮离子对制备的ta-C薄膜进行轰击,通过X射线光电子能谱和原子力显微镜对薄膜表面结构与形貌进行分析研究.研究表明,随着氮离子的轰击能量的增大,薄膜中的CN键结构略有增大,形成了轻N掺杂;同时,在薄膜表层发生了sp3键结构向sp2键结构的转化;薄膜的表面粗糙度在经过氮离子轰击后从0.2nm减小至0.18nm,然后随着轰击能量的增大,表面的粗糙度又增大到0.33nm.氮离子轰击前后的ta-C薄膜的摩擦系数发生显著改变,从轰击前的0.09nm左右增大至0.16nm左右,但是轰击后的薄膜的摩擦系数与氮离子轰击能量没有明显的依赖关系.; 韩亮陈仙杨立王炎武王晓艳赵玉清; 关键词：四面体非晶碳 X射线光电子能谱

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陕西省“13115”科技创新工程重大科技专项(2009ZDKG-29)