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中国博士后科学基金(20080430773)

作品数:2 被引量:2H指数:1
相关作者:周杰沈连婠赵玮郑津津李木军更多>>
相关机构:中国科学技术大学更多>>
发文基金:中国博士后科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇光刻
  • 1篇相干
  • 1篇相干叠加
  • 1篇接近式光刻
  • 1篇光刻仿真
  • 1篇波前

机构

  • 2篇中国科学技术...

作者

  • 2篇李木军
  • 2篇郑津津
  • 2篇赵玮
  • 2篇沈连婠
  • 2篇周杰

传媒

  • 1篇仪器仪表学报
  • 1篇光学学报

年份

  • 2篇2010
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
接近式光刻衍射光场的有效波前作用规律分析被引量:2
2010年
掩模图形不同区域的波前因衍射光的相干叠加作用而对光刻胶上的场点产生不同的影响。为研究这一作用规律,采用波前分割的方法对掩模图形上的波前进行区域划分,并利用光场相干叠加相互抵消的性质,最终得到了掩模图形上对场点光场影响最大的波前区域。理论分析表明,对于图形内部场点而言,这个区域范围为场点附近约一个半波带的大小;而对靠近图形边缘的场点,其范围与边缘形状有关,一般要稍大于一个半波带。利用该方法可以显著提高仿真效率,对于分析由衍射造成的光刻误差来源和大小具有一定的理论指导意义。该理论计算结果得到了实验验证。
李木军沈连婠赵玮郑津津周杰
关键词:光刻相干叠加
大面积复杂掩模图形的快速光刻仿真研究被引量:1
2010年
大面积复杂掩模图形的光刻仿真,要同时满足高精度和高效率两个要求。为克服现有方法积分区域大,计算效率低等问题,提出了一种基于最有效影响区域的简化计算方法。该方法首先利用波前分割的方法确定影响光刻胶目标场点光强的最有效影响区域,以此局部区域替代原来的整体积分区域作光强的计算,将积分区域由整个掩模图形缩小为图形的一小部分。试验结果表明,该算法与现有方法比较,精度上非常接近,但速度显著加快,且稳定可靠。该方法能够快速准确地对大面积复杂掩模图形进行光刻仿真,具有重要的应用价值。
李木军沈连婠赵玮郑津津周杰
关键词:光刻仿真
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