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分子印迹CS@SiO_2聚合物吸附性能评价: 2014年; 以壳聚糖为功能体,柚皮苷为印迹分子,将壳聚糖负载到二氧化硅(CS@SiO2)上,制成柚皮苷(NG)印迹CS@SiO2,用XRD、FT-IR、SEM等测试技术对该印迹聚合物进行分析表征,探讨了印迹CS@SiO2对印迹分子柚皮苷的吸附特性.实验表明,印迹聚合物的吸附特性优于非印迹聚合物.分别用Langmuir和Freundlich等温吸附模型拟合印迹CS@SiO2对NG的吸附等温线,印迹CS@SiO2对NG的吸附符合Langmuir吸附等温方程.印迹聚合物对印迹分子的印迹效率α为1.74,采用橙皮苷作竞争性吸附底物,选择因子β为2.00.; 吴振岳马秀玲黄丽梅曾宝珊陈盛; 关键词：壳聚糖柚皮苷分子印迹

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福建省教育厅资助项目(B070102)