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申继伟
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- 所属机构:南京理工大学紫金学院
- 所在地区:江苏省 南京市
- 研究方向:理学
- 发文基金:国家自然科学基金
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- 申继伟罗为杜锦丽
- 关键词：非线性光学Z扫描量子限制效应
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- 实践教学在应用型高校教学体系中占重要地位,建设合适的实践类教材,对于提高实践教学效果至关重要。以电工电子课程为例,提出立体化实践类教材建设方案,即:以丰富实践教学资源、提高电子信息类学生电路分析、仿真、设计能力为目标;将传统教材与数字化教学资源相结合,拓展学生获取知识的渠道;在建设电工电子立体化实践教材基础上改进实践教学模式,使学生更加便捷的进行自主学习,培养学生的学习兴趣,调动学生学习的积极性。
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- 关键词：实践教学应用型高校数字资源
- 纳米Si/SiN_x薄膜的制备及对Nd∶YAG激光器的被动调Q被引量：4
- 2008年
- 为了研究纳米硅镶嵌氮化硅薄膜材料的被动调Q特性,采用射频磁控反应溅射法结合热退火处理在单晶硅衬底上制备该薄膜,用该样品作为可饱和吸收体,在凹-平腔中实现了氙灯抽运Nd∶YAG激光器的被动调Q运转,在抽运重复频率1Hz情况下获得脉宽最小可达19ns的调Q单脉冲输出。并且研究了该薄膜结构特性、激光器参数,如抽运电压、腔长对调Q脉冲输出性能产生的影响。在此基础上,对实验现象产生的原因做了分析讨论。结果表明,纳米硅镶嵌氮化硅薄膜有一定的调Q效果,具有潜在的研究及应用价值。
- 吕蓬郭亨群王加贤李立卫申继伟
- 关键词：激光技术射频磁控反应溅射ND:YAG激光器被动调Q
- 纳米硅镶嵌氮化硅薄膜的制备与光致发光特性被引量：2
- 2007年
- 为研究氮化硅薄膜发光材料的制备工艺及其光致发光机制,实验采用射频磁控反应溅射技术与热退火处理制备了纳米硅镶嵌氮化硅薄膜材料。利用红外光谱(IR)、X射线衍射谱(XRD)、能谱(EDS)和光致发光谱(PL),对不同工艺条件下薄膜样品的成分、结构和发光特性进行研究,发现在制备的富硅氮化硅薄膜材料中形成了纳米硅颗粒,并计算出其平均尺寸。在510 nm光激发下,观察到纳米硅发光峰,对样品发光机制进行了讨论,认为其较强的发光起因于缺陷态和纳米硅发光。
- 申继伟郭亨群曾友华吕蓬王启明
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- 将信息技术与教育深度融合,进行“课堂革命”,推进符合“两性一度”标准的“金课”建设,是高校提升人才培养质量的关键环节。文章在分析《大学物理》课程特点和教学现状的基础上,以“金课”标准为出发点,将教学内容与学生专业、学科前沿、个性化学习相结合。将线上与线下有机融合,进行混合式教学。建立包含过程性考核、阶段性考核以及个性化学习结果考核的多维度评价体系。通过这些举措切实提高了课程教学效果,为“金课”的建设提供了一种可参考的有效途径。
- 杜锦丽申继伟
- 关键词：大学物理
- 磁控溅射掺Er SiN薄膜的光致荧光谱
- 2008年
- 采用磁控溅射法生长了掺Er SiN薄膜,在高温退火后测试了薄膜的光致荧光谱。薄膜在可见光区域以及红外光区域都表现出了很强的光致发光,观察到了Er离子各高能级到基态的跃迁。对样品进行了RBS等物性分析,给出了薄膜的元素组成,并对Er离子的跃迁发光机制进行了讨论。
- 丁武昌郑军左玉华成步文余金中王启明郭亨群吕蓬申继伟
- 关键词：氮化硅铒
- 纳米硅镶嵌氮化硅薄膜的制备及非线性光学性质研究被引量：5
- 2008年
- 采用射频磁控反应溅射法结合热退火处理技术制备纳米硅镶嵌氮化硅(nc-Si/SiNx)复合薄膜。通过X射线能谱(EDS)、红外光谱(IR)、X射线衍射(XRD)及紫外-可见吸收光谱(UV-vis)的测定,对薄膜进行了组分、键合状态、结构及光学带隙的表征。采用皮秒激光运用单光束Z扫描技术开展了对该复合薄膜的非线性光学性质的研究,测得其三阶非线性折射率系数和非线性光吸收系数分别为10-8esu和10-8m/W量级,并将薄膜这种三阶光学非线性增强的原因归因于量子限域效应。
- 吕蓬郭亨群申继伟王启明
- 关键词：射频磁控反应溅射光学非线性量子限域效应Z扫描
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- 申继伟
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- 文献传递
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- 本文介绍利用VHDL语言设计字符型LCD的驱动程序,给出了驱动代码。
- 申继伟杜锦丽
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