田军
作品数： 14被引量：7H指数：2
  • 所属机构:河北工业大学
  • 所在地区:天津市
  • 研究方向:电子电信
  • 发文基金:国家自然科学基金

相关作者

刘玉岭
作品数：481被引量：749H指数：13
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
唐文栋
作品数：9被引量：20H指数：2
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：CMP 硬盘基板 化学机械抛光 粗糙度 浆料
王立发
作品数：27被引量：43H指数：4
供职机构：中国电子科技集团第十三研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 粗糙度 T/R组件 硬盘基板
刘效岩
作品数：61被引量：82H指数：6
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司
研究主题：化学机械抛光 CMP 晶片 工艺技术 硅片表面
张国玲
作品数：3被引量：0H指数：0
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：CMP 超精密加工 粗糙度 MG(OH)2 CACO3
作品列表